"메타버스서 상표 사용 확대, 디자인 보호 어떻게 할까"…선진 5개청 한국서 논의

특허청, 15일까지 송도서 'TM5 ID5 연례회의' 개최
상표침해, 가상공간 다자인 보호 등 협력과제 논의

이인실 특허청장(앞줄 왼쪽 네번째)이 11일 송도에서 열린 '2023 TM5 및 ID5 연례회의'에서 선진 5개국 대표단들과 기념촬영을 하고 있다. 특허청 제공

특허청은 11일부터 15일까지 송도 오크우드 프리미어에서 선진 5개국 특허청이 참석한 가운데 '2023 TM5 및 ID5 연례회의'를 연다고 밝혔다.

이 행사는 세계 상표 출원의 60%, 디자인 출원의 70% 이상을 차지하는 한국, 미국, 유럽, 일본, 중국 등 선진 5개청이 상표·디자인 분야 국제 규범 형성과 조화, 사용자 편의 향상을 위해 매년 개최된다.

이날부터 12일까지 열리는 TM5 연례회의에서는 상표침해에 대한 인식제고 방안과 악의적 상표출원 방지방안 등 16개 협력과제에 대해 논의를 나눈다. 또한 메타버스와 같은 가상공간에서의 상표사용 확대, 국경을 넘나드는 상표권 침해 등에 대응하기 위한 'TM5 공동선언문'이 발표될 예정이다.

오는 14일 개최되는 ID5 연례회의에서는 메타버스 상 디자인 보호와 디자인 도면 요건에 관한 사용자 가이드 제작 등 12개 협력과제가 다뤄진다. 특히 메타버스 상 디자인 보호 과제는 각국 산업계 의견을 반영해 올해 말 마무리할 계획이다. 한국과 미국은 신규 과제로 '헤이그 국제디자인 심사결과 비교'를 제안하고, 여성의 디자인 제도 참여 활성화를 위한 'ID5 공동선언문'도 논의한다.

특허청은 회의 기간을 '상표·디자인 주간'으로 지정해 상표·디자인 포럼 , TM5·ID5 사용자 세션, 상표 빅데이터 콘퍼런스 등을 개최한다.

이인실 특허청장은 "상표·디자인 분야의 새로운 규범 형성과 출원인의 권리 보호 강화를 목표로 선진 5개청 간 협력을 이끌어 나가겠다"고 말했다. 이준기기자 bongchu@dt.co.kr