저스템 자회사 플람, 에스앤에스텍과 블랭크마스크 표면처리장비 개발

김민성 기자 2023. 9. 6. 11:26
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반도체 부품업체 저스템(417840)의 자회사 플람은 에스앤에스텍(101490)과 반도체 포토 공정의 핵심 부품 소재인 블랭크마스크 표면처리장비를 공동 개발했다고 6일 밝혔다.

블랭크마스크는 반도체 집적회로 패턴이 노광되기 전 마스크로, 석영유리기판 위에 금속막과 레지스트(감광액)를 도포해 만드는 포토마스크의 핵심 재료다.

이번에 공동 개발한 표면처리장비도 저온 고밀도 플라즈마 기술이 적용됐다.

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(서울=뉴스1) 김민성 기자 = 반도체 부품업체 저스템(417840)의 자회사 플람은 에스앤에스텍(101490)과 반도체 포토 공정의 핵심 부품 소재인 블랭크마스크 표면처리장비를 공동 개발했다고 6일 밝혔다.

블랭크마스크는 반도체 집적회로 패턴이 노광되기 전 마스크로, 석영유리기판 위에 금속막과 레지스트(감광액)를 도포해 만드는 포토마스크의 핵심 재료다.

플람은 저온 고밀도 플라즈마 기술을 활용한 기술력을 갖고 있으며, 지난 3월 저스템에 인수합병된 이후 사업영역을 넓히고 있다. 이번에 공동 개발한 표면처리장비도 저온 고밀도 플라즈마 기술이 적용됐다.

ms@news1.kr

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