초고해상도 가상현실 구현…KAIST, 패터닝 기술 개발

조힘찬 신소재공학과 교수팀

카이스트(KAIST)는 신소재공학과 조힘찬(사진) 교수 연구팀이 수백 나노미터 수준 초고해상도 패턴을 제작하는 패터닝 기술을 개발했다고 17일 밝혔다.

디스플레이 패널에 들어가는 수많은 픽셀은 빛을 낼 수 있는 발광 소재를 고해상도로 패터닝(patterning)을 통해 만들어진다. 특히 최근 각광받는 증강현실(AR)·가상현실(VR)용 근안(near-eye) 디스플레이의 경우 우수한 화질을 얻기 위해서는 기존 디스플레이 이상의 초고해상도 픽셀 패턴이 반드시 필요하다.

하지만 높은 색 순도와 발광 효율로 인해 차세대 발광체로 주목받고 있는 양자점(퀀텀닷)이나 페로브스카이트 나노결정과 같은 용액공정용 나노소재의 경우, 고유의 우수한 광학적 특성을 유지하면서 균일한 초고해상도 패턴을 제작하는 것이 매우 어렵다.

연구팀은 양자점과 페로브스카이트 나노결정이 가지는 강한 광촉매 특성을 활용, 양자점 및 페로브스카이트 나노결정에 빛이 조사됐을 때 나노결정 리간드 사이에서 가교(crosslinking) 화학 반응이 쉽게 유도되도록 소재를 설계, 이를 통해 발광성 나노소재의 고유한 광학적 특성을 완전히 보존할 수 있는 초고해상도 패터닝 기술을 개발했다.

연구팀은 해당 공정을 통해 560나노미터(nm) 수준의 패턴 너비를 가지는 초고해상도(1만2000 ppi급) 페로브스카이트 나노결정 패턴을 균일하게 제작할 수 있음을 보였다. 이는 AR·VR 디스플레이에서 일반적으로 요구되는 해상도(수천 ppi)를 훨씬 상회하는 값이다. 형성된 발광 나노소재 패턴은 물리적, 광학적 특성 측면에서 높은 균일도를 보였다.

또 연구팀은 이런 패터닝 메커니즘이 양자점과 페로브스카이트 뿐만 아니라 발광성 고분자에까지 범용적으로 적용될 수 있는 높은 확장성을 가지는 기술이라는 것을 확인했다. 특히 개발된 광촉매 패터닝 기술이 연속적인 다층 공정 및 발광 다이오드 소자 제작에 적용 가능하다는 것을 입증했다.

조힘찬 교수는 “광촉매 패터닝 기술은 간단한 공정을 통해 다양한 발광 나노소재의 우수한 광학적 특성을 그대로 유지하면서도, 초고해상도 패터닝을 쉽게 가능하게 한다”며 “차세대 디스플레이, 이미지 센서 등 다양한 산업에서 유용하게 활용될 수 있을 것으로 기대하고 있다”고 했다.

이번 연구결과는 국제학술지 ‘사이언스 어드밴시스(Science Advances)’ 8월 출판됐다. 구본혁 기자

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