코비스, 차세대 메모리 계측 장비 국산화 [숏잇슈]
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반도체 계측 장비 기업 코비스테크놀로지가 고유전율 유전막과 고대역폭메모리 계측 정확도를 높인 차세대 장비를 개발합니다.
코비스테크놀로지는 고유전율 유전막 특성을 계측할 수 있는 차세대 장비 '게이트옥사이트인터그레이트 전기적특성측정기'를 4분기 출시할 예정입니다.
고유전율 유전막을 반도체에 쓰려면 물질 특성을 정확하게 파악해야하는데 지금까지 이를 위한 계측 장비는 외산에 의존해왔습니다.
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반도체 계측 장비 기업 코비스테크놀로지가 고유전율 유전막과 고대역폭메모리 계측 정확도를 높인 차세대 장비를 개발합니다. 메모리 제조사의 계측 수요에 대응, 외산 일색인 시장에서 고성능 계측기 국산화에 도전합니다.
코비스테크놀로지는 고유전율 유전막 특성을 계측할 수 있는 차세대 장비 '게이트옥사이트인터그레이트 전기적특성측정기'를 4분기 출시할 예정입니다. 현재 개발 막바지 단계라고 합니다.
'하이케이'라 불리는 고유전율 유전막은 반도체 회로 미세화에 따라 수요가 늘어나는 신소재입니다. 얇은 두께에 전하를 많이 모을 수 있고 누설 전류를 최소화할 수 있어 차세대 반도체 소재로 손꼽히고 있습니다. 고유전율 유전막을 반도체에 쓰려면 물질 특성을 정확하게 파악해야하는데 지금까지 이를 위한 계측 장비는 외산에 의존해왔습니다.
코비스는 현재 외산 대비 계측 정확도를 20~30% 높이는 장비를 개발하고 있습니다. 초소형 검증 핀을 소재에 접촉시켜 전기적 특성을 파악하는 방식입니다. 해당 장비 도입 시 고유전율 유전막을 적용한 반도체 공정 수율을 높일 수 있다고 회사는 설명했습니다.
※[숏잇슈]는 'Short IT issue'의 준말로 AI가 제작한 숏폼 형식의 뉴스입니다.
권동준 기자 djkwon@etnews.com
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