숭실대 학부생, 고채전해질 소재 스크리닝 플랫폼 구축

숭실대 기계공학부 학부생 김주오씨. (숭실대 제공)

(서울=뉴스1) 서한샘 기자 = 숭실대는 기계공학부 학부생인 김주오씨가 저명 국제 학술지 'ACS 응용 재료·인터페이스'(ACS Applied Materials&Interfaces)에 제1저자로 논문을 게재했다고 2일 밝혔다. 해당 학술지는 피인용 지수 9.5를 기록했다.

게재된 논문은 '차세대 고체전해질 소재 스크리닝 플랫폼 구축'을 주제로 한다.

해당 논문에서는 나시콘(NASICON) 전고체 전해질 물질의 이온 전도도를 예측하는 머신러닝 기반 모델을 구축하고, 전자 밀도 함수 계산과 제일원리 분자 동역학 시뮬레이션을 통해 예측 결과를 검증했다.

그 결과 김씨는 계산의 효율성을 크게 높이는 동시에 구조적으로 안정적이고 높은 이온 전도도를 보이는 나시콘 전고체 전해질 후보 4종을 제시했다.

해당 연구의 연구책임자로는 민경민 기계공학부 교수, 공동저자로 강승표 숭실대 기계공학부 학생(석사 과정)이 참여했다. 이들은 한국연구재단의 지원을 받아 연구를 수행했다.

saem@news1.kr