경쟁업체 입사하려 반도체 기술 유출…삼성 前 직원 2심서 실형

해외 경쟁업체에 입사하기 위해 국가핵심기술로 지정된 최신 반도체 기술을 빼돌린 삼성전자 출신 엔지니어가 항소심에서 실형을 선고받았다.

17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소된 전 삼성전자 엔지니어 최모(44)씨에게 징역 1년 6개월의 실형과 벌금 1000만원을 선고했다. 최씨는 법정구속 됐다.

최씨는 삼성전자에서 근무하면서 인텔로 파운드리 반도체 핵심 기술이 담긴 파일을 유출하려 한 혐의로 재판에 넘겨졌다. 인텔로 이직을 준비하던 최씨는 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람한 뒤 이를 촬영해 빼돌린 것으로 조사됐다.

검찰은 1심에서 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했지만, 재판부는 A씨에게 징역 1년 6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다.

항소심 재판부는 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민 경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 취득·유출한 범죄의 중대성, 범행 내용, 수법에 비춰 죄책이 무거움에도, 최씨가 극히 일부 혐의만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려해 실형을 선고했다.

검찰은 “앞으로도 국가핵심기술 및 영업비밀 유출 사범에 신속, 엄정히 대응하고 죄에 상응하는 처벌이 이뤄질 수 있도록 노력하겠다”고 밝혔다.

백준무 기자 jm100@segye.com