최신 반도체 기술 유출 혐의 삼성전자 전 직원 항소심서 실형
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항소심 법원이 외국 경쟁업체 입사를 위해 반도체 국가핵심기술과 영업비밀 등을 유출한 혐의로 기소된 삼성전자 전 직원에게 실형을 선고했습니다.
서울고법은 삼성전자 엔지니어로 일하다, 해외 경쟁업체인 인텔로 이직을 준비하며, 최신 반도체 초미세 공정에 대한 파일 33개를 외부에서 열람하고 촬영해 빼돌린 혐의로 기소된 최 모 씨에게 징역 1년 6개월에 벌금 1천만 원을 선고하고 법정구속했습니다.
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항소심 법원이 외국 경쟁업체 입사를 위해 반도체 국가핵심기술과 영업비밀 등을 유출한 혐의로 기소된 삼성전자 전 직원에게 실형을 선고했습니다.
서울고법은 삼성전자 엔지니어로 일하다, 해외 경쟁업체인 인텔로 이직을 준비하며, 최신 반도체 초미세 공정에 대한 파일 33개를 외부에서 열람하고 촬영해 빼돌린 혐의로 기소된 최 모 씨에게 징역 1년 6개월에 벌금 1천만 원을 선고하고 법정구속했습니다.
재판부는 "국가의 안전보장과 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 기술을 유출해 죄책이 무거운데도 극히 일부 잘못만 인정하고 반성하지 않고 있다"고 밝혔습니다.
김지인 기자(zin@mbc.co.kr)
기사 원문 - https://imnews.imbc.com/news/2023/society/article/6504622_36126.html
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