‘中취업 위해 반도체 기술 유출’ 前삼성 엔지니어, 2심 실형

1심 집유에 檢 항소.. 2심에서 법정 구속
항소심 “반성 안 해... 범죄 중대성 고려”

서울고법 전경.

중국 업체에 취업하기 위해 국내 반도체 초미세 공정 기술을 빼돌린 전직 삼성전자 직원이 2심에서 실형을 선고받고 법정 구속됐다.

17일 법조계에 따르면 서울고법 형사7부(부장판사 이규홍)는 지난 14일 부정경쟁방지법 위반과 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 엔지니어 A(44)씨의 항소심 선고기일에서 원심을 깨고 징역 1년 6개월을 선고하고 법정 구속했다. 벌금 1000만원도 함께 명령했다.

검찰에 따르면 재판부는 A씨가 공판 과정에서 혐의를 극히 일부만 인정하고 반성하지 않은 점, 기술이 유출될 경우 국가의 안전보장과 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 점, 해당 기술을 취득·유출한 범죄의 중대성 등을 고려해 원심을 파기했다. A씨는 앞서 1심에서 징역 1년 6개월에 집행유예 2년을 선고받았고, 이에 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)는 이에 불복해 항소했다.

삼성 그룹을 퇴사한 뒤 중국 반도체 업체로 이직한 A씨는 지난 2018년 8월 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람하면서 사진을 촬영하는 방식으로 국가핵심기술과 영업비밀을 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다. 검찰은 A씨에게 징역 5년과 벌금 1억원을 구형한 바 있다.

하지만 1심은 A씨에게 집행유예를 선고하면서 “통신망 링크를 통해 파일을 열람하며 촬영한 행위는 영업비밀과 국가핵심기술의 유출로 보기 어렵다”고 했다. 국외로 기술을 유출한 혐의에 대해서는 “미필적으로 인식하고 취득했다”고 판단했다.

검찰 관계자는 이날 “앞으로도 국가핵심기술과 영업비밀 유출 사범에 신속·엄정히 대응하고 죄에 상응하는 처벌이 이뤄질 수 있도록 노력하겠다”고 전했다.

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