세계 최초 '초임계 반도체 세정장비' 中 유출 일당 징역형

법원 "연구개발 위해 투자한 막대한 시간 비용 헛되이 해...중대 범죄"

[수원=뉴시스] 변근아 기자 = 삼성전자 자회사인 세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 반도체 세정장비 핵심 기술을 해외 유출한 전직 연구원들이 징역형을 선고받았다.

11일 수원지법 형사15부(부장판사 이정재)는 산업기술보호법위반, 부정경쟁방지법위반(영업비밀국외누설 등) 등 혐의로 기소된 세메스 전 연구원 A씨의 선고공판을 열고 징역 5년에 벌금 5억원을 선고했다.

또 A씨와 함께 기소된 기술유출 브로커 B씨와 세메스 협력사 대표 C씨 등 4명에게 징역 2~4년에 벌금 300만~3억원을 각각 선고하고 이 중 혐의가 가벼운 1명에 대해서는 형의 집행을 3년간 유예했다. 아울러 A씨가 세운 회사에 대해서도 벌금 10억원을 선고했다.

재판부는 이들의 혐의 대부분을 유죄로 인정했다. 재판부는 "피고인의 이 사건 각 범행은 피해자가 반도체 세정장비 기술 연구 개발을 위해 투자한 막대한 시간과 비용을 헛되게 해 큰 악영향을 미친 중대한 범죄"라고 판시헀다.

이어 "이 사건 기술정보는 피해자가 다년간 연구 개발해 얻어낸 성과로 첨단기술 및 국가핵심기술로 평가되는 부분도 포함돼 있어 이를 가볍게 처벌한다면 기술 해외 유출 등을 방치하는 결과를 낳을 것"이라고 양형 이유를 덧붙였다.

A씨는 2016년 세메스를 그만두고 나와 2019년 다른 회사를 설립한 뒤 2021년 6월 협력사 대표 C씨로부터 세메스가 세계 최초로 개발 및 양산에 성공한 초임계 반도체 세정장비의 핵심 도면을 부정취득한 뒤, 기술유출 브로커 B씨를 통해 중국에 유출 혐의로 기소됐다.

C씨는 A씨에게 초임계 도면을 넘겨주는 대가로 38억원 상당의 투자를 받고, 8억원을 입금받은 것으로 조사됐다.

초임계 세정 장비는 약액 등으로 반도체 웨이퍼를 세정한 뒤 웨이퍼를 건조시키는 단계에서 초임계 상태의 이산화탄소를 이용해 웨이퍼를 건조하는 장비로서 세메스가 세계 최초로 개발 및 상용화에 성공한 차세대 장비다.

기존 습식 세정장비의 회전식 건조로 인해 생기는 패턴 무너짐을 막기 위해 개발한 것으로, 손상을 최소화해 초미세 반도체의 불량률을 줄이는 핵심 기술로 국가핵심기술로도 지정돼 있다.

세메스는 이러한 초임계 기술개발을 위해 약 350억원의 연구비를 투자했던 것으로 알려졌다.

A씨는 또 함께 구속기소 된 세메스 전 연구원 등과 공모해 2021년 5~7월 세메스가 일본에 이어 세계 2번째로 개발에 성공한 매엽식 인산 세정장비 기술 정보를 자신이 운영하는 회사 직원들에게 누설한 혐의도 있다.

인산 세정장비는 인산 약액을 사용해 표면에 실리카 등이 남아있는 반도체 웨이퍼를 1개씩 세정하는 장비다.

A씨는 지난해 5월 세메스의 영업비밀인 또 다른 반도체 세정장비 기술을 이용해 같은 스펙의 장비 14대를 만든 뒤 도면 등 제작기술과 장비를 함께 중국에 유출한 혐의로 1심에서 징역 4년을 선고받은 바 있다. 이 사건은 현재 항소심이 진행 중이다.

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