삼성 파운드리 초미세 공정 수율 개선 “4나노 75%·3나노 60%”

삼성전자 화성캠퍼스 전경

삼성전자 파운드리(반도체 위탁생산) 미세공정 수율이 개선됐다는 분석이 나왔다.

하이투자증권은 11일 '삼파전(삼성파운드리전)' 보고서를 통해 “삼성전자 4나노(㎚) 수율은 75% 이상, 3나노 수율은 60% 이상일 것으로 추정된다”며 “4나노 이하 공정 수율 개선에 성공했다”고 밝혔다. 수율 개선은 테스트 웨이퍼 투입량을 늘린 성과라고 분석했다.

하이투자증권은 최근 삼성 파운드리 3·4나노 수율이 개선됨에 따라 기존 삼성 파운드리를 이탈한 고객사를 재확보하기 유리할 것이라고 내다봤다. 앞서 삼성 파운드리는 퀄컴 등 주요 고객사가 TSMC로 위탁생산을 옮겨 악재로 작용한 바 있다.

하이투자증권은 “삼성전자를 통해 제품을 생산했던 경력이 있는 퀄컴과 엔비디아는 다시 삼성을 채택할 가능성이 있다”며 “내년 초 갤럭시 S24에 탑재될 엑시노스도 삼성 파운드리 성장에 크게 기여할 것”이라고 내다봤다.

또 3나노 경우 세계 최초로 게이트올어라운드(GAA) 공정을 선제적으로 도입한 것도 수율 안정화에 한 몫한 것으로 분석된다. 3나노 공정에 GAA를 이미 적용한 삼성전자와 달리 TSMC는 2025년 2나노 공정부터 GAA 도입을 예고했다. 이미 GAA 제조 경험과 노하우가 있는 삼성전자가 향후 초미세공정 수율에서 앞설 것이라는 전망이다.

하이투자증권은 “삼성전자 3나노 GAA 수율이 60% 이상 올라온 만큼 2나노 경쟁에서도 유리할 것”이라고 전망했다.

박종진 기자 truth@etnews.com