지재권 범죄 양형기준 강화…쉬워진 피해입증 등 사각지대 해소

내년 4월 지식재산권 범죄에 대한 양형기준 마련
행정조사 후 바로 시정명령, 미이행시 과태료 부과
연내 아이디어 원본 증명제도 도입 등 추진에 속도

이인실 특허청장이 28일 정부대전청사에서 기술탈취 분쟁에 대한 원스톱 해결 체계 구축과 솜방망이 처벌 대책 등을 담은 ‘기술탈취 방지대책’을 발표하고 있다. 특허청

기술탈취 등 산업재산권 범죄에 대한 처벌이 강화된다. 피해자의 입증이 쉬워지고 신속한 분쟁 해결을 위한 행정체계를 새롭게 구축키로 했다.

특허청은 28일 원스톱 분쟁 해결과 처벌 강화, 보호 사각지대 해소 등을 주요 내용으로 하는 ‘기술탈취 방지대책’을 발표했다.

무임승차에 대한 처벌보다 경제적 이익이 크다는 잘못된 인식을 개선하고 국내 기술의 해외 유출을 원천적으로 차단하기 위한 조치다. ‘솜방망이 처벌’을 불식시키기 위해 영업비밀 유출 범죄에 대한 양형기준을 높이기로 했다. 지난해 선고된 영업비밀 해외 유출 범죄의 형량은 평균 14.9개월로 최대 징역 15년인 법정형보다 크게 낮았다. 더욱이 75.3%가 집행유예를 받아 처벌의 실효성 논란이 끊이질 않았다. 특허청과 대검찰청은 양형기준 상향을 담은 기준 정비 제안서를 양형위원회에 제출·선정되면서 내년 4월까지 지식재산권 범죄에 대한 양형기준을 정비할 예정이다.

조속한 분쟁 해결을 위한 전담조직(산업재산분쟁해결종합지원센터)를 설치해 분쟁조정·행정조사·기술경찰 수사를 종합적으로 관리한다. 행정조사 후 시정명령을 내리고 미이행시 과태료를 부과해 이행력을 높이기로 했다. 아이디어 탈취 사건을 우선 처리하는 신속조사 체계도 마련해 현재 11개월 걸리는 조사 기간을 6개월로 단축하는 등 조기 분쟁 해결에 나선다.

분쟁조정에 조사 기능을 강화한다. 최근 5년간 조정이 불성립한 177건 중 54.2%(96건)가 조정 불응이었다. 특허청은 기술전문가의 현장 확인 등 기술조사를 실시하고 의도적 조정 불응시 행정조사나 수사로 연계키로 했다. 특허·영업비밀 침해에 한정된 특허청 기술경찰 수사 범위를 산업기술 해외 유출 등으로 확대하는 방안을 관계 부처와 협의해 추진할 계획이다.

피해기업이 쉽게 증거를 수집할 수 있도록 법관이 지정한 전문가가 침해 현장에서 직접 조사를 실시하는 ‘한국형 증거수집 제도(디스커버리)‘도 도입에 속도를 내기로 했다. 유출 가해 법인의 2차 피해를 막기 위해 제조설비를 몰수하는 제도 개선도 추진한다.

피해 발생 시 가장 확실한 증거인 ‘아이디어 원본 증명제도’를 연내 도입하고, 본 계약 전 비밀유지계약(NDA) 체결을 의무화하는 방안도 검토키로 했다.

이인실 특허청장은 “기술탈취 분쟁에 대한 실효성있는 원스톱 해결체계를 구축하겠다”며 “전문성을 갖춘 1400여명의 특허 심사·심판관에 대해 기술심판 역할을 지속적으로 강화해 나갈 계획”이라고 밝혔다.

세종 박승기 기자