특허청, 기술탈취 분쟁 원스톱 해결 체계 구축…"신속한 피해 구제"

산업재산 분쟁 해결 종합지원센터 설치해 구제
행정조사 후 시정 명령·미이행 시 과태료 부과

특허청은 28일 원스톱 분쟁 해결 체계 구축, 솜방망이 처벌 문제 해결, 보호 사각지대 해소 등을 주요 내용으로 하는 ‘기술탈취 방지대책’을 발표했다. / 정부대전청사

[더팩트 | 대전=박종명 기자] 기술 탈취 분쟁 시 신속한 피해 구제를 위해 원스톱 해결 체계가 구축된다. 또 행정조사 후 처벌 수위도 강화되고 손쉬운 피해 입증을 위해 아이디어 원본증명 제도가 도입된다.

특허청은 28일 이 같은 내용의 기술 탈취 방지대책을 발표했다.

기술 탈취 분쟁 시 신속한 피해 구제를 위해 ‘산업재산 분쟁 해결 종합지원센터’를 설치해 분쟁조정, 행정조사, 기술경찰 수사를 종합적으로 관리하고 지원한다. 중장기적으로는 ‘산업재산 분쟁조정법(가칭)’을 제정해 ‘산업재산 분쟁조정원’을 설립하는 방안도 검토한다.

아이디어 탈취 시 시정 권고 및 미이행 시 공표만 가능했던 행정조사 처벌도 강화된다. 2018년부터 올해 5월까지 시정 권고한 아이디어 탈취 사례 6건 중 2건만 이행된 점을 감안해 시정명령 제도와 불이행 시 과태료 부과 제도를 도입한다. 또 기술분야별 전문조사관 체계를 구축하고, 아이디어 탈취 사건을 우선 처리하는 신속 조사 체계도 마련해 현재 11개월 걸리는 아이디어 탈취의 행정조사 기간을 6개월로 줄인다.

피해 기업이 증거 불충분 등으로 패소하는 일을 최소화하기 위해 행정조사 및 분쟁조정 자료가 법원의 소송 증거로 적극 활용될 수 있도록 기록 송부 요청제도도 개선한다.

특허 영업비밀, 아이디어 등에 대한 분쟁조정의 사실조사 기능도 강화해 특허청의 기술전문가가 현장조사 등 기술조사까지 할 수 있도록 하고, 효율적인 분쟁 조정을 위해 상임분쟁조정위원을 두도록 법적 근거를 마련한다.

또 특허와 영업비밀 침해 시에만 한정된 기술경찰 수사 범위를 산업기술 해외 유출 등으로 확대하는 방안을 관계 부처와 협의해 추진한다.

영업비밀 유출 범죄에 대한 엄중한 처벌을 위해 대검찰청, 사법부와 함께 법원의 양형기준 개정을 추진한다. 지난해 선고된 영업비밀 해외 유출 범죄의 형량은 평균 14.9개월로 최대 징역 15년인 법정형에 비해 낮고, 75.3%가 집행유예를 받는 등 솜방망이 처벌이라는 비판이 많았다. 특허청과 대검찰청은 영업비밀 유출 범죄의 양형기준 상향을 주요 내용으로 하는 기준 정비 제안서를 양형위원회에 제출, 양형위원회에서 ‘지식재산권 범죄’가 정비 대상으로 선정돼 내년 4월까지 양형기준을 정비할 예정이다.

피해 기업이 손해를 제대로 배상받기 위해서는 침해 입증과 손해액 산정에 필요한 증거 수집이 가장 중요한 만큼 보다 쉽게 증거를 수집할 수 있도록 법관이 지정한 전문가가 침해 현장에서 직접 자료를 조사하는 등의 ‘한국형 증거 수집 제도’ 도입도 추진한다.

법인의 조직적인 영업비밀 유출 행위에 대한 벌금형을 자연인의 3배까지 강화하고, 2차 피해 차단을 위해 제조설비를 몰수하는 제도 개선도 추진한다.

사업 제안, 거래 교섭, 협상 과정에서 아이디어 탈취 상황을 개선하기 위해 아이디어의 구체적 내용과 거래 교섭 시 교환한 자료까지 전자문서로 등록해 피해 발생 시 가장 확실한 증거로 사용할 수 있도록 아이디어 원본 증명제도도 도입하고, 본 계약 체결 전에도 비밀유지계약(NDA)을 체결하도록 의무화하는 방안도 검토한다.

이인실 특허청장은 "피해 기업들이 기술 탈취 분쟁에 대한 특허청의 행정조사, 분쟁조정, 기술경찰 수사를, 쉽고 편하게 이용할 수 있도록 실효성 있는 원스톱 해결 체계를 구축하겠다"며 "앞으로도 특허청은 1400여명의 특허심사·심판관 등의 기술전문성을 바탕으로 기술심판 역할을 지속 강화해 기술 탈취 분쟁이 신속하고 공정하게 해결되도록 최선을 다하겠다"고 말했다.

thefactcc@tf.co.kr

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