프랙틸리아, 오버레이 측정·분석으로 EUV 패턴 제어 향상 지원

프랙틸리아 오버레이 패키지 예시.

프랙틸리아가 확률론적 오류(스토캐스틱) 제어 솔루션에 오버레이 패키지를 제공한다. 패키지는 프랙틸리아 메트로LER와 페임(FAME)에 핵심 오버레이 측정·분석 기능을 새롭게 추가한 옵션 제품이다. 극자외선(EUV) 장비 패턴 제어와 수율 향상을 지원한다.

메트로LER와 FAME은 프랙틸리아 특허기술 FILM(Fractilia Inverse Linescan Model)에 컴퓨터 분석 기술을 결합, 첨단 노드에서 패터닝 오류 원인으로 지목되는 스토캐스틱을 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 검증된 팹 솔루션을 제공한다. 다수 반도체 칩 제조사가 주사전자현미경(SEM) 기반 오버레이 데이터 분석에 프랙틸리아 오버레이 패키지를 활용하기 위해 협력하고 있다.

오버레이는 패터닝이 이뤄진 각 레이어를 이전 단계 레이어 위에 정확히 쌓아 디바이스가 전기적 접속이 잘 이루어지고 제대로 동작하게 하는 것을 의미한다. 프랙틸리아 FAME 솔루션 포트폴리오는 고유 물리학 기반 SEM 모델링과 데이터 분석 접근법을 사용해 SEM 이미지로부터 시스템 차원 임의적 오차를 분석·제거하고 실제 웨이퍼상에서 정확히 측정한다.

FAME은 라인 에지 거칠기(LER), 라인폭 거칠기(LWR), 국소적 CD 균일성(LCDU), 국소적 에지 배치 오류(LEPE), 스토캐스틱 결함 같은 모든 주요 스토캐스틱 효과를 동시에 측정하고 임계선폭(CD) 분석도 제공한다. 프랙틸리아는 신호대 잡음비(SNR)가 가장 높은 에지 검출이며 각각 SEM 이미지로부터 30배 이상 더 많은 데이터를 추출한다고 밝혔다.

크리스 맥 프랙틸리아 최고기술책임자(CTO)는 “첨단 패터닝 공정 제어 향상을 위해 SEM 기반 오버레이 분석이 더 많이 사용되고 있지만 다른 스토캐스틱 분석방법처럼 시스템 차원 임의적 SEM 오차 영향을 받는다”며 “프랙틸리아 오버레이 패키지로 SEM 스토캐스틱 분석과 광학 오버레이 분석을 결합하면 분석 정확도를 높여 패터닝 제어를 향상하고 스토캐스틱 변이를 낮출 수 있을 것”이라고 말했다.

박종진 기자 truth@etnews.com