[사설] 삼성 반도체공장 중국에 통째 복제… 처벌이 약하니 이렇다

표절, 산업 스파이 ⓒ게티이미지뱅크

삼성전자 반도체공장 설계자료를 몰래 빼내 중국에 공장을 통째 복제하려던 일당이 재판에 넘겨졌다. 단순한 기술유출이 아니라 공장 자체를 복제하려 했다니 충격적이다. 중국 등 해외로의 기술유출은 갈수록 늘고 있다. 기술 패권 경쟁이 한창인 반도체가 핵심 타깃이다. 이대로 방치하다가 중국에 추월당하는 건 시간 문제다.

수원지검은 삼성전자 상무, SK하이닉스 부사장을 지낸 A씨를 산업기술보호법 등 위반 혐의로 구속 기소하고 공범 6명을 불구속으로 재판에 넘겼다고 어제 발표했다. A씨는 중국에서 4,600억 원을 투자받아 현지에 반도체 회사를 설립한 뒤 삼성전자 등에서 핵심인력 200여 명을 영입했다. 그는 직원들을 통해 삼성전자의 설계도면, 클린룸 조성조건(BED), 공정배치도 등을 몰래 빼내 중국 시안에 ‘복제 공장’을 설립하려 했다고 한다. 삼성전자 시안공장과 불과 1.5㎞ 떨어진 곳이었다.

이번 사건은 개별적인 반도체 기술유출과는 차원이 다르다. A씨가 빼돌린 공정배치도와 BED는 국가 안보에 영향을 줄 수 있는 국가핵심기술이고, 설계도면은 삼성전자의 중요한 영업기밀이다. 공장이 중국에 그대로 복제됐다면 유사 품질의 반도체 제품이 대량 생산될 수 있었다. 검찰은 유출 자료의 가치가 최소 3,000억 원이라고 봤다.

산업스파이들의 해외 기술유출은 점증한다. 경찰청 국가수사본부가 넉 달간의 특별단속에서 35건의 기술유출을 적발했는데 이 중 8건이 중국 등 해외 유출이었다. 국정원이 지난 5년간 적발한 해외 기술유출도 93건, 피해액이 25조 원에 달한다고 한다.

기술유출은 기업들이 막대한 시간과 돈을 들여 이뤄낸 성과물을 송두리째 도둑맞는 일이다. 손쉽게 큰돈을 벌 수 있다는 유혹을 막으려면 엄중한 처벌이 필수다. 하지만 최근 8년간 기술유출 범죄로 징역형을 선고받은 365명 중 80%인 292명이 집행유예였다. 기본 징역형이 1년~3년 6개월로 양형기준이 낮고, 감경사유도 많아서다. 미국은 최대 33년 9개월의 징역형이 가능하다. 대법원이 양형기준 개선에 나선다니 지켜볼 일이다. 찔끔 강화에 그쳐서는 안 된다.