‘현대판 매국’ 기술유출 처벌 세질까

대검·경찰·산업부·특허청
양형위에 의견서 제출 촉각
양형기준 신설·형량 상향 요구
국가지정 기술 가중 처벌 필요성도

#. 삼성전자는 최근 자사 디바이스솔루션(DS) 부문 엔지니어 A씨를 핵심 기술이 포함된 자료를 유출한 혐의로 해고하고 국가기관에 수사를 의뢰했다. 지난 3월에는 또 다른 삼성전자 직원 B씨가 영업비밀 국외 누설 등 혐의로 재판을 받았다. 해외 업체로 이직을 준비하면서 반도체 초미세 공정 관련한 기술과 영업비밀을 사진 촬영해 부정 취득한 혐의다. B씨는 1심에서 징역 1년 6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고받았다.

심화하는 글로벌 기술 패권 경쟁으로 국내 기업 기술 유출 사례가 빈번해지고 있다. 반도체, 디스플레이, 2차 전지 등 미래 산업이 먹잇감이다. 해외 유출 사건의 대다수는 중국으로 유출된다. 개별 기업은 물론 국가 경쟁력에도 악영향을 미친다. 하지만 재판에서 무죄, 집행유예를 받는데 그치는 경우가 많아 정부 부처와 기관이 대응에 나섰다.

18일 각 기관에 따르면 대검찰청, 경찰청, 특허청, 산업통상자원부는 각각 최근 대법원 양형위원회에 기술유출 범죄 양형 기준 상향을 위한 의견서를 제출했다. 새로 출범한 제9기 대법원 양형위원회 논의 과정에 의견을 보태기 위해서다. 지난달 27일 출범한 대법원 양형위원회는 다음달 12일 첫 전체회의를 시작한다.

업계와 유관 기관은 지속되는 기술 유출이 솜방망이 처벌 때문이라고 입을 모은다. 법원이 판결 시 참조하는 양형 기준이 2017년 이후 바뀌지 않아 개정된 법을 따라가지 못한다는 지적이다. 기술 유출 범죄는 2019년 부정경쟁방지및영업비밀보호에관한법률(부정경쟁방지법)과 산업기술유출방지및보호에관한법률(산업기술보호법) 개정으로 법정형이 강화됐다. 부정경쟁방지법은 최대 10년 또는 1억 원 이하의 벌금에서 최대 15년 이하의 징역 또는 15억 이하의 벌금으로, 산업기술보호법은 국가핵심기술유출의 국외유출의 경우 3년 이상의 유기징역으로 법정형을 상향했다.

대검찰청 연구 용역 보고서 ‘기술유출 범죄 양형 기준에 관한 연구’에 따르면 2015년부터 2020년까지 산업기밀 유출 사건으로 재판을 받은 사건 835건 중 301건(36.05%)이 집행유예를 받았다. 무죄 판결 또한 191건(22.87%)에 달했다. 일반 형사 사건 무죄율이 3% 대라는 것을 감안하면 매우 높은 수치다.

각 기관은 공통적으로 ▷양형 기준 상향 ▷감형 인자 중 초범 제외를 건의했다. 대검찰청은 법정형 대비 양형 기준이 낮아 국가적으로 관리되는 산업기술을 유출하고도 집행유예를 받은 실제 사건을 예시로 든 것으로 알려졌다.

기술 침해 행위를 세분화하는 방안도 제시했다. 우선 특허청은 현재 지식재산권 범죄에 포함된 기술유출 범죄를 별도로 분리해 양형 기준을 신설하는 방안을 제출했다. 지식재산권 범죄에는 기술 유출 외에도 상표권과 같은 소위 ‘짝퉁’ 범죄, 부정경쟁행위 범죄 등도 포함된다. 특허청 관계자는 “막대한 경제적 피해를 입히는 기술 유출 범죄와 비교적 가벼운 범죄가 함께 묶여 있어 기술유출 범죄에 집행유예나 감형 기준이 동일하게 적용되는 문제가 있다”고 설명했다. 산업부와 경찰청은 법으로 지정된 산업기술, 국가핵심기술, 방위산업기술, 국가첨단기술 유출 시 가중 처벌하자는 내용을 담았다. 현재는 기업이 기밀로 관리하는 영업비밀 침해 행위에 대한 기준이 동일하게 적용된다.

park.jiyeong@heraldcorp.com