삼성전자, 직원 기술유출 또 적발

반도체 핵심기술 수십건 외부로
국내 산업기술 유출 피해 56조
처벌수위 강화 등 방지책 시급

반도체 핵심기술을 유출하려던 삼성전자 직원이 또다시 적발됐다. 국가첨단산업 핵심기술 유출 시도가 잇따르면서 처벌 수위 강화 등 강력한 방지책 마련이 시급하다는 지적이다.

17일 관련 업계에 따르면 삼성전자 DS(반도체) 부문은 최근 핵심 기술이 포함된 자료를 유출한 혐의로 엔지니어 A씨를 해고 조치하고, 국가기관에 수사를 의뢰했다. A씨는 핵심기술이 담긴 중요 자료 수십 건을 외부 개인 메일로 발송한 뒤 일부를 다시 본인의 또 다른 외부 메일 계정으로 2차 발송해 보관하다 적발됐다.

잇따른 삼성전자 내부의 기술 유출 시도가 성공할 경우 국가경쟁력에 큰 타격을 입게 된다. 전국경제인연합회가 추정한 산업기술 유출로 인한 우리나라의 연간 피해 규모는 약 56조원이다.

지난해 4월 해외 업체로 이직을 준비하던 삼성전자 엔지니어 B씨는 재택근무 기간 화면에 국가 핵심 기술이 포함된 중요 자료 수 백장을 사진 촬영해 보관하다 발각됐다. B씨는 범죄 혐의가 확인돼 구속됐다. B씨는 1심에서 징역 1년 6월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고받았으나, 검찰이 더 무거운 처벌이 필요하다며 항소한 상태다.

또다른 직원 C씨도 국내 협력 업체로의 이직을 준비하던 중 화면에 띄운 중요 기술 자료 수 천장을 촬영해 보관하다 적발됐다. 당시 삼성전자는 C씨를 해고 조치한 뒤 국가기관에 수사를 의뢰했다. C씨는 지난달 법원에서 징역형을 선고 받았다. 올해 초에는 삼성전자 자회사인 세메스 전 연구원 등 7명이 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의로 징역형을 받았다.

삼성전자는 카메라 촬영을 통한 기술유출을 막을 수 있도록 사내 보안 프로그램 체계 고도화에 속도를 내는 것으로 알려졌다.

국회도 첨단산업 기술유출 방지를 위한 관련 법안을 발의하며 규정 정비에 나서고 있다. 더불어민주당 김태년 의원이 대표발의한 '산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 일부개정법률안'(산업기술보호법)을 보면 국가핵심기술을 외국에서 사용하거나 사용되게 할 목적으로 부정한 방법을 통해 기업·연구기관과 같은 대상기관의 산업기술을 취득하는 행위 등은 기존 3년 이상의 유기징역과 15억원 이하의 벌금에서 7년 이상의 유기징역과 30억원 이하의 벌금으로 처벌을 강화하는 내용을 담았다.