삼성전자 1분기 시설투자 10.7조원...반도체에만 9.8조원
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삼성전자가 올해 1분기 시설투자 금액으로 약 10조7천억 원을 집행했다고 27일 밝혔다.
사업부별로는 DS(반도체 부문)에 9조8천억 원, SDC(디스플레이)에 3천억 원을 투자했다.
디스플레이는 중소형 모듈 보완 및 인프라 투자가 집행됐다.
더불어 삼성전자는 1분기 연구개발비에 6조5천800억 원을 투자했다.
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(지디넷코리아=이나리 기자)
삼성전자가 올해 1분기 시설투자 금액으로 약 10조7천억 원을 집행했다고 27일 밝혔다. 사업부별로는 DS(반도체 부문)에 9조8천억 원, SDC(디스플레이)에 3천억 원을 투자했다.
메모리의 경우 중장기 공급성 확보를 위한 평택 3기 마감, 첨단공정 수요 대응을 위한 4기 인프라 투자 등이 진행됐다. 또 미래 경쟁력 강화를 위한 R&D 투자와 후공정 투자도 지속했다.
파운드리는 첨단공정 수요 대응을 위해 미국 텍사스 테일러 및 평택 공장 중심으로 투자가 진행됐다.
디스플레이는 중소형 모듈 보완 및 인프라 투자가 집행됐다.
더불어 삼성전자는 1분기 연구개발비에 6조5천800억 원을 투자했다. 이는 지난 분기에 이어 역대 최대치 경신이다.
이나리 기자(narilee@zdnet.co.kr)
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