기술 유출 ‘솜방망이 처벌’ 없앤다
초범도 강도 높은 형 받도록 해
의료기기 업체에 다니던 A씨는 지인으로부터 ‘핵심 기술을 가져오면 중국 업체에 취직시켜주겠다’는 제안을 받았다. A씨는 의료기기 설계도면을 넘겼고, 중국 업체는 설계도면을 수정해 특허출원까지 했다. 하지만 2021년 법원은 A씨에게 집행유예를 선고했다. A씨가 초범이며 피해액을 산출하기 쉽지 않다는 이유에서다.
특허청이 매년 늘어나는 기술 유출을 막기 위해 처벌 수위를 높이는 ‘양형 기준 정비’에 나섰다. 지난 2019년 기술 해외 유출 시 최고형을 징역 10년에서 15년 이하로 늘리는 등 법정형을 강화했지만, 실제 법정에서 구형되는 형량이 낮아 유죄 판결 10건 중 7건 꼴로 집행유예를 받으며 ‘솜방망이 처벌’이라는 지적이 나오고 있기 때문이다.
특허청은 대법원 양형위원회에 ‘양형기준 정비 제안서’를 제출하고, 지식재산권 범죄에 포함돼 있던 기술 유출 범죄를 따로 떼어내 별도의 양형 기준 신설을 추진하겠다고 밝혔다. 권고 형량도 해외 유출은 2~5년, 국내 유출은 1~3년으로 기존보다 두 배 가까이 높이고, 가중 처벌의 경우 최대 7년까지 구형할 수 있도록 형량을 조절한다.
대부분 초범이며 피해 규모의 입증이 어렵다는 기술 범죄의 특성을 고려해 형량의 가중 요소도 정비한다. 집행유예 참작 사유였던 ‘실제 피해가 경미한 경우’와 ‘형사처벌 전력 없음’을 삭제해 초범도 강도 높은 형을 받을 수 있도록 하고, 유출된 자료가 완전히 파기된 경우에만 형량을 감경받을 수 있도록 한다.
이인실 특허청장과 이원석 검찰총장은 다음 달 2일 세미나를 열고 양형 기준 정비에 대해 논의한 뒤, 이를 토대로 오는 6월에 열리는 양형위원회 전체 회의에 해당 안건을 올릴 계획이다. 특허청 관계자는 “전 세계 기술 각축전이 벌어지는 만큼, 우리 기술을 보호하기 위한 처벌 강화가 필요하다는 공감대가 형성됐다”고 밝혔다.
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