어플라이드 "30% 빨라진 속도로 전자빔 계측 장비 혁신"

'하이-NA EUV 리소그래피 공정'에 최적화···생산 수율 극대화

[아이뉴스24 민혜정 기자] 세계 1위 반도체 장비기업 어플라이드 머티어리얼즈가 30% 빨라진 스캔 속도로 반도체 생산 수율을 극대화할 수 있는 전자빔 계측 장비를 선보였다.

어플라이드는 24일 온라인 기자간담회를 열고 새로운 전자빔 계측 시스템 '베리티SEM(VeritySEM) 10'을 공개했다.

신제품은 극자외선(EUV), EUV보다 진화된 하이-NA EUV 리소그래피(반도체 기판에 집적회로를 만드는 기술) 공정으로 패터닝된 반도체 소자의 패턴 거리측정(CD)을 정밀하게 측정하도록 설계됐다.

반도체 제조사들은 리소그래피 스캐너가 마스크에서 포토레지스트로 패턴을 형성하면 패턴 거리측정 주사전자현미경(CD-CEM)을 사용해 이를 서브 나노미터(0.1나노) 단위로 측정할 수 있다.

반도체 소자의 패턴 거리 측정은 특히 하이-NA 공정에서 포토레지스트 두께가 얇아지면서 점점 어려워지고 있다. 이에 따라 정확한 계측을 위해 CD-SEM이 극도로 얇은 포토레지스트가 점유한 좁은 공간에 얇은 전자빔을 정확하게 조사하는 기술이 필요하다.

새로운 시스템은 기존보다 분해능이 2배 높고 스캔 속도가 30% 빨라 반도체 제조사들이 공정 개발을 가속하고 대량 생산 수율을 극대화할 수 있다.

미국에 본사가 있는 어플라이드는 매출(지난해 257억9천만 달러) 기준 반도체 장비 1위 기업이다. 특히 세계 전자빔 시장 점유율 50% 이상을 차지한 전자빔 시스템 분야 최대 공급 업체다.

어플라이드는 매출의 17% 가량이 한국에서 나오고 있어 이 시장에 공들이고 있다. 삼성전자와 SK하이닉스는 어플라이드의 대형 고객사다.

이석우 어플라이드 이미징 및 프로세스 제어(IPC) 기술 총괄은 "베리티SEM 시리즈는 1천300대 정도가 반도체 업체에 공급돼 있다"며 "며 "고객사는 (베리티SEM 시리즈로) 공정효율을 높여 생산능력을 확대할 수 있다"고 자신했다.

반도체 업체들은 게이트올어라운드(GAA) 로직 트랜지스터, 3D 낸드 메모리 등의 패턴 거리 측정 애플리케이션에 베리티SEM 10을 사용할 수 있다.

이석우 총괄은 "세계 주요 로직 반도체 위탁생산(파운드리) 기업과 메모리반도체 회사에 베리티SEM 10이 공급되고 있다"며 "국내 주요 반도체 기업도 마찬가지"라고 강조했다.

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