주성, ALD로 시스템 반도체 공정 진출

황철주 주성엔지니어링 회장이 13일 서울 여의도 콘래드호텔에서 개최한 창립 30주년 기업설명회에서 인사말을 하고 있다. 김민수기자 mskim@etnews.com

주성엔지니어링이 원자층증착(ALD) 기술을 바탕으로 시스템 반도체 공정장비 분야로 진출한다. ALD는 지난 30년 동안 주성 혁신을 이끌어 온 기술이다. 주성은 ALD를 고도화해서 디스플레이와 태양전지 장비도 업그레이드한다.

황철주 주성엔지니어링 회장은 13일 서울 여의도 콘래드 호텔에서 창립 30주년 기업 설명회를 열고 이 같은 내용의 사업 계획을 밝혔다. 이 자리에서 황 회장은 ALD 기술을 소개하며 신규 장비 개발이 마무리 단계에 있다고 밝혔다.

ALD는 원자를 층층이 쌓는 증착 방식으로, 나노미터보다 미세한 두께를 구현할 수 있다. 반도체뿐만 아니라 디스플레이 공정에서도 활용되는 고난도 기술이다. 주성은 세계 최초로 D램 커패시터용 ALD 기술을 확보한 후 다수 반도체·디스플레이 장비에 적용하고 있다.

황 회장은 “시스템 반도체 제조를 위한 ALD 장비가 거의 완성 단계”라면서 “반도체 성능을 높일 수 있는 트랜지스터 공정 신기술도 상당 부분 확보했다”고 밝혔다.

그동안 메모리 반도체 공정용 ALD 장비를 주로 개발해 온 주성이 시장 규모와 성장성이 훨씬 큰 시스템 반도체 쪽으로 저변을 넓혀 신성장 동력으로 삼으려는 전략으로 풀이된다.

주성은 디스플레이에서도 유기발광다이오드(OLED)에 이어 무기물을 증착하는 기술을 활용, 차세대 디스플레이 패널 제조 장비에 도전한다. 또 미래 먹거리로 집중 육성하고 있는 차세대 태양광 장비도 임박했다고 밝혔다. 주성은 ALD와 화학기상증착(CVD) 기술을 융합하는 방식으로 발전전환효율 35%의 태양전지 장비를 세계 최초로 개발하고 있다. 황 회장은 “태양전지 장비도 막바지 단계”라면서 “주성의 독자 기술로만 가능한 장비를 세계 최초로 선보이겠다”고 밝혔다.

박종진기자 truth@etnews.com