반도체 세정 기술 중국에 유출...전 세메스 직원들 징역형

법원 로고. /뉴스1

삼성전자 자회사인 세메스가 개발한 반도체 세정장비 핵심 기술을 중국으로 유출한 혐의로 기소된 전 연구원들에게 실형이 선고됐다.

수원지법 형사15부(재판장 이정재)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률, 부정경쟁 방지 및 영업 비밀 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 세메스 전 연구원 A씨에게 징역 4년을 선고했다고 20일 밝혔다. 또 A씨가 세메스를 퇴직해 2019년 설립한 반도체 장비 제조업체 법인에도 벌금 10억원을 선고했다.

재판부는 범행에 가담한 세메스 협력사 직원 B씨 등 6명에게 각각 징역 2년6개월을 선고하고, 이들 가운데 가담 정도가 경미한 2명에게는 집행유예 3년에 사회봉사 80시간 이수를 명령했다.

A씨 등은 2018년 3월부터 2021년 12월까지 약 3년 동안 세메스의 영업비밀인 반도체 습식 세정장비 제작 기술 등을 부정 사용해 장비 24대의 설계도면을 만들고, 이를 이용해 710억원 상당의 장비 14대를 제작해 중국 경쟁업체 또는 중국 반도체 연구소에 수출한 혐의로 기소됐다.

이들은 세메스 협력업체에 부탁하거나 세메스를 퇴직할 때 관련 정보를 반납하지 않는 방식으로 세정장비 기술 정보와 설계도면 등을 부정한 방법으로 취득한 것으로 나타났다.

반도체 세정장비는 반도체 기판에 패턴을 조각하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하는 장비다. 세메스는 반도체 불량 발생 비율을 혁신적으로 낮출 수 있는 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 건조기법 등 다양한 세정방식을 개발하며 업계를 선도해왔다.

재판부는 “이 사건에서 유출 및 부정 사용된 자료들은 피해 회사(세메스)가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과이고, 일부는 국가 핵심기술로 평가된다”며 “이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업 입장에선 기술 개발에 매진할 동기가 없어지고 해외 경쟁업체가 우리나라 기술력을 손쉽게 탈취하는 것을 방지하지 못하는 결과가 될 것”이라고 밝혔다.