한국재료연, 차세대 뉴로모픽 반도체 소자 세계 최초 개발

김용훈·권정대 박사연구팀 개발…손글씨 패턴 인식률 96.77%

뉴로모픽 반도체 소자 모식도.(한국재료연 제공)

(창원=뉴스1) 강정태 기자 = 한국재료연구원은 리튬이온으로 고집적도에 높은 신뢰성을 가진 차세대 뉴로모픽 반도체 소자를 세계 최초로 구현했다고 8일 밝혔다.

이 기술은 재료연구원 나노표면재료연구본부 김용훈, 권정대 박사연구팀이 개발했다.

뉴로모픽 반도체 소자는 저전력으로 정보의 처리와 기억을 동시에 수행하면서 미세패턴 인식까지 구현할 수 있는 반도체다.

기존 반도체는 서로 다른 물질의 계면 사이에 전하트랩이나 산소 이온 등을 이용하면서 이온의 이동을 원하는 대로 조절하기 어려웠다.

연구팀은 리튬이온을 100나노미터 이하 수준으로 초박막화하고 이를 2차 나노소재와 접목하는 방법으로 고집적, 고신뢰성의 새로운 반도체 소자를 만들었다.

연구팀은 이렇게 만들어진 반도체 소자로 손글씨 이미지 패턴인식을 학습한 결과 약 96.77%라는 높은 손글씨 패턴 인식률을 보였다고 설명했다.

김용훈·권정대 박사연구팀은 “뉴로모픽 반도체 소자는 정보처리와 저장을 동시에 수행하며 손글씨 패턴과 같은 이미지 학습 및 인식을 수행할 수 있다”며 “향후 세계적 수준의 뉴로모픽 하드웨어 시스템, 햅틱 소자, 비전 센서 등 다양한 저전력 인공지능 디바이스에 확대 적용될 것으로 기대된다”고 말했다.

연구팀의 이번 연구결과는 세계적인 학술지인 ACS에서 발행하는 ‘ACS AMI’에 지난해 11월 게재됐다.

jz1@news1.kr