[사설] 잇따른 핵심기술 中 유출, 솜방망이 처벌 탓

김시형 특허청 산업재산보호협력국장이 26일 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술 중국 유출 사건에 대해 브리핑을 하고 있다. 사진=대전일보 DB

우리나라 기업들이 막대한 비용을 들여 연구 개발한 반도체 등 핵심기술이 중국 등으로 유출되는 행태가 끊이지 않고 있다. 2017년부터 지난해까지 국내에서 적발된 핵심기술 해외 유출은 36건에 달하는데, 반도체와 디스플레이 등 한국이 중국에 앞서는 분야가 다수를 차지한다.

특허청과 대전지검은 어제 반도체 웨이퍼 연마(CMP)와 관련된 기술을 중국에 유출한 국내 대기업과 중견기업 전직 직원 3명과 공범 3명 등 모두 6명을 적발했다고 밝혔다. 모두 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법(영업비밀 국외누설 등) 위반 혐의 등으로 기소됐다. 이들은 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등을 중국으로 유출한 혐의를 받고 있다. 연마공정은 웨이퍼표면의 미세한 요철을 평탄화하는 공정으로, 반도체 핵심기술 중 하나다.

주범 가운데 한 명은 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP) 제조사업 동업할 것을 약속하고, 생산설비 구축 등 전반적인 사업을 관리하다 직접 중국으로 건너가 해당업체 사장급으로 일했다고 한다. 또한 타 업체 연구원 3명도 스카우트해 중국업체로 이직시킨 것으로 알려졌다.

이처럼 산업기술 유출 범죄가 끊이지 않는 것은 법과 제도가 허술하기 때문이다. 기술을 유출하다 적발돼도 실형으로 처벌받는 건 10명 중 1명에 불과하다. 국가에 큰 손해를 끼친 산업스파이가 솜방망이 처벌을 받는 건 법원의 양형 기준이 낮기 때문이다. 산업기술보호법은 핵심기술을 해외로 유출할 경우 3년 이상 징역에 처하도록 했지만 법원은 영업비밀 위반 1-3년 반, 산업기술 유출 2-6년의 양형을 유지하고 있다.

미국은 '경제스파이법'을 통해 국가 전략기술을 유출하다 걸리면 간첩죄로 가중 처벌한다. 일본과 대만도 각각 '경제안전보장추진법'과 '경제간첩죄'를 적용할 정도로 기술유출에 대한 처벌을 강화하고 있다. 산업기술의 국외 유출은 중대범죄이다. 기업의 생존은 물론 국가 경쟁력에 심각한 위협이 될 수밖에 없다. 무엇보다 중국의 노골적인 첨단기술 탈취에 대해 경각심을 가져야 한다. 기술 유출을 막기 위해 우리도 미국과 일본처럼 법과 제도를 정비하고 처벌을 강화하는 것이 시급하다.