삼성전자 자회사 반도체 세정 핵심기술 유출 일당 기소

‘세계 최초 개발’ 초임계 반도체 세정기술 유출
세메스 전 직원, 연구원, 중국인 브로커 재판에
세계 2번째 개발 기술, 삼성전자 정보도 유출
검찰 “350억 이상 직접손해…업계 수조 피해 예상”

반도체 세정장비(왼쪽 그림)와 세정 절차. 반도체 세정장비는 웨이퍼 위에 패턴을 형성하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하고, 패턴을 원하는 형상으로 형성하거나 필요없는 부분을 제거하는 기계다. 웨이퍼에 새겨지는 패턴이 초미세화·초집적화 돼 고도의 기술력이 필요하다는 게 검찰의 설명이다. [수원지검 제공]

[헤럴드경제=안대용 기자] ‘국가핵심기술’로 분류되는 삼성전자 자회사 세메스의 반도체 세정장비 기술 등을 해외로 유출한 혐의를 받는 일당이 재판에 넘겨졌다.

수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(부장 박진성)는 세메스 전 직원 A씨와 전 연구원 B씨를 13일 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 구속 기소했다. 기술유출 브로커인 중국국적 C씨도 같은 혐의 등을 적용해 함께 재판에 넘겼다.

검찰에 따르면 A씨는 C씨와 공모해 세메스가 20나노미터 이하 메모리 생산을 위해 세계에서 최초로 개발·양산에 성공한 ‘초임계 반도체 세정장비’ 챔버부 도면을 2021년 6월 부정취득한 뒤 중국에 유출한 혐의를 받는다. 초임계 반도체 세정장비는 세메스 외에 일본 회사 한 곳만 가능한 기술이라고 한다. 산업기술보호법상 국가핵심기술에 해당한다.

A씨는 B씨와 공모해 같은해 5~7월 세메스의 인산 세정장비 기술자료를 누설한 혐의도 받는다. 세메스가 세계에서 두 번째로 개발에 성공한 기술이다. 세메스에서 근무한 A씨는 퇴직 후 2019년 자신의 회사를 설립했는데, 2019년 7월~지난해 10월 회사 자금 총 27억원 가량을 횡령한 혐의도 있다.

세메스 연구원으로 근무하다가 A씨가 설립한 회사에 아내 명의로 취업한 B씨는 세메스의 모회사인 삼성전자 메모리 및 파운드리 세정 공정에 사용되는 정보를 정리해 회사 팀장들에게 배포한 혐의도 적용됐다.

검찰은 세메스가 2009~2021년 초임계 기술개발 연구비 등 약 350억원을 투자했는데 최소 같은 금액 이상의 직접적 손해가 발생했다고 판단했다. 기술유출 범행에 따른 기술경쟁력 저하로 세메스에 연간 400억원 이상의 손해가 발생할 우려가 있고, 삼성전자의 반도체 생산경쟁력 약화로 이어져 반도체 산업 전반에 수조원 이상 피해 발생이 예상된다고 추산했다. 검찰은 A씨 등 일당이 2019년 12월부터 지난해 7월까지 총 20대의 세정장비 등을 수출해 약 1193억원 상당의 이득을 얻었다고 봤다.

검찰은 지난해 11월 C씨와 A씨 회사 협력사 대표, 직원 등 기술유출에 가담한 3명을 산업기술보호법 위반 등 혐의로 이미 재판에 넘겼다. 지난해 1월부터 본격적으로 세메스 기술유출 사건을 수사한 검찰은 앞서 같은 해 5월 총 10명을 기소한 뒤 수사를 이어갔다. A씨도 지난해 5월 산업기술보호법 위반 혐의로 구속 기소됐다가 11월 보석 석방됐는데, 지난해 말 이 사건 혐의로 다시 구속영장이 발부됐다.

검찰은 A씨가 설립한 회사의 세정장비를 압류하는 등 3차례에 걸쳐 추징보전명령을 집행했다. 범죄행위로 발생한 재산 중 검찰이 묶어둔 금액은 합계 535억원 상당으로 반도체 세정장비 본체 등 234억 상당 유체동산과 301억 상당 예금채권, 부동산 가압류 등이다.

dandy@heraldcorp.com