SK하이닉스, 혁신특허 발명 임직원 포상…상금 2억여원 수여

올해로 5회째…특허 10건 선정·19명 수상
D램 내부의 회로 개선·불순물 개선 등 기술혁신 기여

(서울=뉴스1) 노우리 기자 = SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 개최했다. 사진은 (왼쪽부터) 지속경영담당 김윤욱 부사장, 미래기술연구원 황선환 TL, SKHU 장세억 교수, 미래기술연구원 차선용 부사장. (SK하이닉스 제공)

SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 개최했다고 8일 밝혔다.

올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤욱 지속경영담당 부사장, 민경현 특허담당 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건이다. D램 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 신범주 DRAM개발 TL과 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU(SK Hynix University, 사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 이외에도 낸드, 솔루션, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신특허를 선정하고 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억1500만원을 수여했다.

SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다. SK하이닉스는 이 제도를 기반으로 구성원의 연구 의욕을 고취하고, 회사의 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 특허를 지속적으로 발굴해 나간다는 계획이다.

we1228@news1.kr