SK하이닉스, 제5회 혁신특허포상 실시

SK하이닉스가 지난 7일 개최한 '혁신특허포상' 시상식에서 수상자들이 기념촬영을 하고 있다. 지속경영담당 김윤욱 부사장, 미래기술연구원 황선환 TL, SKHU 장세억 교수, 미래기술연구원 차선용 부사장(왼쪽부터). SK하이닉스 제공

[파이낸셜뉴스] SK하이닉스는 지난 7일 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 개최했다고 8일 밝혔다.

올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 지속경영담당 김윤욱 부사장, 특허담당 민경현 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건으로, D램 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 D램 개발 신범주 TL과 D램 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 미래기술연구원 황선환 TL, 장세억 SKHU(SK하이닉스 사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 낸드플래시, 솔루션, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건·은상 3건·동상 5건)의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억 1500만 원을 수여했다.

한편, SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다.