SK하이닉스, 제5회 혁신특허포상 실시

“기술혁신 기여한 특허 발명 구성원에 포상”

(왼쪽부터)김윤욱 SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 황선환 SK하이닉스 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU 교수, 차선용 SK하이닉스 미래기술연구원 부사장.[SK하이닉스 제공]

[헤럴드경제=김지헌 기자] SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 최근 개최했다고 8일 밝혔다.

올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤욱 SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 민경현 SK하이닉스 특허담당 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건이다. D램 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 D램 개발 신범주 TL과 D램 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 SK하이닉스 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU(사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 이외에도 낸드, 솔루션, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억1500만 원을 수여했다.

SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다. SK하이닉스는 이 제도를 기반으로 구성원의 연구 의욕을 고취하고, 회사의 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 글로벌 일류 기술기업으로 나아가기 위한 특허를 지속적으로 발굴해 나간다는 계획이다.

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