노광장비 개발..틈새 노리는 日

캐논, 5천억 들여 신공장 건설

◆ K반도체 초비상 ◆

일본의 반도체 제조장비 기업인 캐논이 2025년까지 생산능력을 2배로 늘리기로 했다. 업계가 불황기에 접어들고 있지만 선제적 설비투자를 통해 반도체 장비 시장에서 자국 경쟁력을 더 키우겠다는 포석이다.

5일 업계에 따르면 캐논은 일본 혼슈 남동부 도치기현에 신공장을 짓기로 했다. 캐논은 반도체 업계에서 '슈퍼 을'로 불리는 네덜란드 ASML처럼 반도체 공정에 필수적인 노광장비를 만들고 있다.

현재 일본 내에 우쓰노미야 사업장과 아미 사업장 등 2곳에서 노광장비를 생산하고 있는데 우쓰노미야 사업장의 유휴 용지에 21년 만에 새 공장을 짓기로 했다. 2023년 착공해 2025년 봄에 가동한다는 목표다. 투자 비용은 500억엔(약 5000억원) 전후가 될 것으로 알려졌다.

노광장비는 빛으로 웨이퍼에 회로를 새기는 데 쓰인다. 노광장비 시장에서 캐논은 ASML에 이어 점유율 2위 업체다. ASML이 60%, 캐논은 30% 안팎의 높은 점유율로 시장을 양분하고 있다.

특히 ASML은 극자외선(EUV)을 이용한 노광장비 시장을 100% 독점하고 있다. 7나노미터(㎚) 이하의 최첨단 반도체 공정에 쓰이는 핵심 장비다. 이에 비해 캐논과 니콘 등 일본 기업은 EUV 노광장비가 초기에 막대한 개발 비용이 필요했기 때문에 관련 투자를 포기하고 범용 장비에 주력해왔다.

캐논이 ASML을 따라잡기 위해 집중하고 있는 기술은 '나노 임프린트'다. 반도체에 초미세 회로를 새겨넣기 위해 나노 패턴을 일종의 도장처럼 웨이퍼 위에 찍어내는 기술이다. EUV에 비해 제조 비용이 저렴하고 공정도 단순한 것으로 알려졌다.

캐논 측은 "EUV는 가격이 비싸고 소비전력도 크다는 게 약점"이라면서 "나노 임프린트가 실용화되면 노광 공정 비용을 최대 40%, 소비전력은 90%까지 줄일 수 있을 것으로 전망된다"고 밝혔다.

[도쿄 = 김규식 특파원 / 서울 = 오찬종 기자]

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