日캐논, 반도체 노광장비 공장 신설에 5000억 투자

약 5000억 규모..2025년 봄 가동 목표

캐논 로고. ⓒ 로이터=뉴스1 ⓒ News1 김예슬 기자

(서울=뉴스1) 김예슬 기자 = 캐논이 500억엔(약 4917억)을 투자해 일본 도치기현(現)에 반도체 노광장비 신공장을 건설한다. 2025년 봄 가동을 목표로, 생산량을 현재의 2배로 늘리겠다는 계획이다.

5일(현지시간) 니혼게이자이신문에 따르면 캐논은 도치기현의 우쓰노미야 공장 내 7만㎡ 공터에 반도체 노광장비를 생산하는 신공장을 짓는다.

공장 건설 비용과 생산 설비 등을 포함한 총 투자액은 500억 엔 중반대로, 2023년 중 신공장 착공에 들어간다.

닛케이는 "미국과 한국, 대만 등 세계에서 반도체 공장 신설 투자가 과열되고 있고 일본에서도 반도체 산업의 기술 혁신을 내다본 투자가 본격화된다"고 의미를 부여했다.

캐논은 현재 우쓰노미야시(市)와 이바라키현 두 개의 거점에서 반도체 노광장비를 생산하고 있다. 이 장비는 자동차 제어용 등의 반도체 제조에 이용된다.

노광장비는 웨이퍼에 빛으로 반도체 회로를 새기는 과정에 필요한 장비다. 캐논의 반도체 노광장비 세계시장 점유율은 30%로, 60%를 차지하는 네덜란드의 ASML에 이어 세계 2위다.

캐논이 신공장 건설에 나선 건 수요 증가가 예상되기 때문으로 풀이된다. 올해 노광장비의 예상 판매 대수는 전년 대비 29% 증가한 180대다. 이는 최근 10년 사이 4배 가까이 증가한 수치다. 캐논 측은 이번 신공장 건설로 2개의 거점을 합친 생산능력보다 생산능력을 2배 더 키워 수요 증가에 대응하겠다는 방침이다.

아울러 세계반도체시장통계(WSTS)에 따르면 지난해 반도체 시장 규모는 5000억 달러(약 708조2500억원)를 넘어섰다. 업계에서는 2030년 시장 규모가 1조 달러(약 1416조 5000억원)에 이를 것이라는 전망이 우세하다.

이와 함께 캐논은 '나노 임프린트' 기술 개발도 추진한다. 이 기술을 사용할 경우 기존의 노광 공정에 비해 낮은 제조 비용으로 첨단 미세 회로를 형성할 수 있다는 게 캐논 측의 설명이다. 도장을 찍듯 회로를 그리는 방식으로, 제조 공정이 단순해 설비투자액을 줄일 수 있다는 장점이 있다.

캐논은 나노 임프린트 기술이 상용화할 경우 극자외선(EUV) 노광 기술에 대적할 수 있을 것으로 관측한다. EUV에 비해 노광 공정의 제조 비용을 최대 40%, 소비 전력을 90% 줄일 수 있기 때문이다. 현재 EUV 노광 기술은 ASML이 독점하고 있다.

캐논은 나노 임프린트의 판매를 확대해 ASML의 아성을 무너뜨리는 것을 목표로 한다고 니혼게이자이는 전했다.

2019년 4월4일(현지시간) 네덜란드 펠트호번에서 ASML 직원들이 반도체 노광장비의 최종 조립 작업을 하고 있다. 2019.04.04 ⓒ 로이터=뉴스1 ⓒ News1 김예슬 기자

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