시노펙스, 반도체 PR 공정용 100나노급 필터 국산화

시노펙스가 전량 수입에 의존하던 100나노급 UPE 필터 국산화에 성공했다고 4일 밝혔다.

시노펙스는 4일부터 서울 코엑스에서 열리는 '스마트비즈엑스포'에서 100나노급 UPE 필터를 공개한다. 스마트비즈엑스포는 삼성전자가 중소기업을 후원하는 차원에서 중소벤처기업부, 중소기업중앙회와 함께 진행하는 행사다.

이번에 개발한 UPE필터는 반도체 생산의 핵심공정인 PR(포토레지스트) 공정에 사용되는 제품으로 PR케미컬의 불순물을 걸러주는 역할을 한다.

반도체 제조공정 특성상 미세한 파티클의 관리가 제품의 수율을 좌우하며 반도체 회로선폭이 미세해 지면서 파티클을 걸러주는 미세한 필터가 필수적으로 필요하다. 하지만 그 동안 100나노급 UPE필터의 경우 전량 해외수입에 의존해 왔다.

시노펙스는 이번 제품에 성인 평균 머리카락 굵기의 1000분의 1에 해당하는 100나노급 미세 기공사이즈 구현, 멤브레인 강화기술, 리크 예방 기술 등을 적용하여 100% 완전성 검사를 통해 자체기술로 개발하는데 성공했다.

노시갑 부사장은 " 시노펙스는 전처리 공정에 사용되는 POU필터, CMP 필터를 국산화하여 삼성전자에 공급하고 있으며, 그 동안 멤브레인 필터의 지속적인 기술 개발을 통해 반도체 생산에 가장 핵심으로 분류되는 PR공정용 필터국산화에 성공했다"고 말했다. 이어 " PR공정용 100나노급 필터는 기존 일본과 미국회사에서 전량 수입하는 상황에서 이번에 핵심필터 국산화를 통해 한국 반도체 산업경쟁력 강화에 일조할 수 있게 됐다"고 강조했다.

한편 시노펙스는 이번 100나노급 UPE필터 국산화 성공을 계기로 2023년에는 50나노급 UPE 필터를 개발하여 업계 선두의 경쟁력을 지속적으로 강화해 나간다는 전략이다.

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김건우 기자 jai@mt.co.kr

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