국일그래핀, 글로벌 기업과 R&D 협력 추진.. "그래핀 상용화 현실화 기대"

국일그래핀, 글로벌 기업과 R&D

[파이낸셜뉴스] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발 추진에 힘입어 글로벌 기업과의 협력 방안 논의를 진행할 것이라고 28일 밝혔다.

앞서 국일그래핀은 지난달 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이며 앞으로의 성과가 기대된다고 회사측은 전망하고 있다.

펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 업계에서는 펠리클 도입을 필수로 보고 있어 굴지의 대기업들도 상용화를 위한 투자확대, 자체 개발과 외부 협력을 동시에 추진하고 있다.

특히 EUV 펠리클은 수십nm 미만의 얇은 두께를 유지하면서도 90% 투과율, 균일성, 반사율 등 다양한 사양을 동시 충족해야 한다. 어려운 조건에도 불구하고 또한 EUV공정을 적용한 반도체 생산량과 EUV 레이어 수가 증가하면서 펠리클 및 검사 장비의 수요도 증가하고 있다. 현재 펠리클의 연 시장규모는 4조 5천억원 수준에 이를 것이라 추정하고 있다.

회사 관계자는 “자사에서 컨퍼러스 콜 및 지난주 해외방문을 통해 다국적 기업 A사 등과 지속적 논의를 진행하고 있다”며 “협력방안 추진을 위한 자사 방문 일정들이 가시적으로 잡혀지고 있어 향후 시장 진입시점의 구체화 되는 터닝포인트 계기가 될 것”이라고 말했다.
#반도체 #그래핀 #국일제지 #국일그래핀 #EUV #펠리클 #그래핀상용화