WSJ "인텔, 오하이오 주 생산 시설 착공식 무기한 연기"

지난 1월 25조원 투자 발표.."반도체 지원법 관련 불확실성 언급"

(지디넷코리아=권봉석 기자)인텔이 지난 22일(이하 현지시간) 미국 오하이오 주에서 열릴 예정이었던 반도체 생산시설 착공식을 무기한 연기한 것으로 나타났다. 월스트리트저널이 23일 이 같이 보도했다.

인텔은 지난 1월 말 미국 오하이오 주 콜럼버스시 외곽 리킹 카운티에 총 200억 달러(약 25조원) 이상을 들여 4.04제곱킬로미터(1천에이커) 규모의 새로운 반도체 생산시설 2개를 세울 예정이라고 밝힌 바 있다.

인텔이 미국 오하이오 주에 건립할 새로운 반도체 생산 시설 조감도. (사진=인텔)

그러나 월스트리트저널에 따르면 인텔은 지난 22일 오하이오 주지사와 주의회에 반도체 지원 법 관련 '불확실성'을 이유로 착공식을 무기한 연기할 것이라고 밝혔다.

월스트리트저널은 "인텔은 미국 상·하원이 미국 내 반도체를 육성하기 위한 '반도체 지원법'을 제정한 후 가결이 늦어지고 있는데 대해 불만을 가지고 있는 것"이라고 추정했다.

미국 상원은 올해 2월 자국 내 반도체 생산력 증대를 위해 520억달러(약 65조8천억원) 규모의 '반도체 지원 법안(CHIPS for America Act)'을 통과시켰다. 그러나 하원의 승인은 여전히 늦어지고 있는 상황이다.

인텔은 이달 초 "이 법안은 아시아에 편중된 반도체 생산 역량을 유럽 뿐만 아니라 미국으로 확대해 미국 내 산업 경쟁력 확보에도 중요한 역할을 할 것"이라는 내용의 영상을 공개하며 하원의 결단을 촉구하기도 했다.

권봉석 기자(bskwon@zdnet.co.kr)