尹-바이든, 반도체 동맹 상징 '3나노 웨이퍼'에 사인
곽도영 기자 2022. 5. 21. 03:00
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20일 양국 정상의 삼성전자 평택 반도체 공장 시찰에선 최첨단 반도체 기술과 한미 기술협력 사례들이 소개됐다.
윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령은 방명록 대신 최첨단 3나노미터(nm·1nm는 10억분의 1m) 공정 반도체 웨이퍼에 서명한 뒤 P3 생산라인 투어를 시작했다.
바이든 대통령은 "3나노 최첨단 반도체 제품을 삼성이 내놓고 있다"면서 "평택과 같은 파운드리를 텍사스 테일러시에 구축하는 것을 감사하게 생각한다"고 말했다.
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[오늘 한미정상회담]
최첨단 반도체로 기술동맹 메시지
바이든 "美에 파운드리 구축 감사"
최첨단 반도체로 기술동맹 메시지
바이든 "美에 파운드리 구축 감사"
20일 양국 정상의 삼성전자 평택 반도체 공장 시찰에선 최첨단 반도체 기술과 한미 기술협력 사례들이 소개됐다.
윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령은 방명록 대신 최첨단 3나노미터(nm·1nm는 10억분의 1m) 공정 반도체 웨이퍼에 서명한 뒤 P3 생산라인 투어를 시작했다.
3나노 반도체는 머리카락 굵기 10만분의 3에 불과한 3나노미터 폭으로 웨이퍼(반도체 기판) 위에 회로를 만들어 생산한다. 초미세 반도체 공정은 회로 선폭이 작을수록 첨단이다. 3나노는 5나노 공정보다 칩 면적과 소비전력을 각각 35%, 50% 줄이고, 처리속도는 30% 빠른 반도체를 만들 수 있다.
삼성전자는 2019년 3나노 반도체를 개발한 후 올해 상반기(1∼6월) 세계 첫 양산을 목표로 하고 있다. 대만 TSMC는 올 하반기(7∼12월) 예정이다. 바이든 대통령은 “3나노 최첨단 반도체 제품을 삼성이 내놓고 있다”면서 “평택과 같은 파운드리를 텍사스 테일러시에 구축하는 것을 감사하게 생각한다”고 말했다.
램리서치, KLA 등 미국 반도체 장비업체 관계자들이 설명을 맡아 한미 기술협력 현장을 보여줬다. 정상들이 연설한 무대 뒤에는 미국 국적의 삼성 직원들이 자리해 눈길을 끌었다.
윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령은 방명록 대신 최첨단 3나노미터(nm·1nm는 10억분의 1m) 공정 반도체 웨이퍼에 서명한 뒤 P3 생산라인 투어를 시작했다.
3나노 반도체는 머리카락 굵기 10만분의 3에 불과한 3나노미터 폭으로 웨이퍼(반도체 기판) 위에 회로를 만들어 생산한다. 초미세 반도체 공정은 회로 선폭이 작을수록 첨단이다. 3나노는 5나노 공정보다 칩 면적과 소비전력을 각각 35%, 50% 줄이고, 처리속도는 30% 빠른 반도체를 만들 수 있다.
삼성전자는 2019년 3나노 반도체를 개발한 후 올해 상반기(1∼6월) 세계 첫 양산을 목표로 하고 있다. 대만 TSMC는 올 하반기(7∼12월) 예정이다. 바이든 대통령은 “3나노 최첨단 반도체 제품을 삼성이 내놓고 있다”면서 “평택과 같은 파운드리를 텍사스 테일러시에 구축하는 것을 감사하게 생각한다”고 말했다.
램리서치, KLA 등 미국 반도체 장비업체 관계자들이 설명을 맡아 한미 기술협력 현장을 보여줬다. 정상들이 연설한 무대 뒤에는 미국 국적의 삼성 직원들이 자리해 눈길을 끌었다.
곽도영 기자 now@donga.com
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