ASML, 인텔에 EUV 신장비 공급 '2025년부터 생산에 활용'

네덜란드 펠트호번에 위치한 반도체 제조장비 업체 ASML의 본사 전경(ASML 제공) © 뉴스1

(서울=뉴스1) 김동규 기자 = 반도체 극자외선(EUV) 노광 장비 제조사인 ASML이 인텔에 신형 EUV 노광장비를 공급한다고 19일(현지시간) 밝혔다.

ASML이 인텔에 공급하는 장비는 하이NA(High-NA) EUV 장비인 트윈스캔 EXE:5200이다. 이 장비는 인텔이 2025년부터 적용할 초미세공정인 18A에 활용될 예정이다.

이 장비는 이전 EUV 장비보다 더 향상된 0.55NA(노광렌즈수차)를 제공해 장비보다 더 정밀한 공정이 가능하다.

앤 켈러 인텔 수석부사장은 "ASML과 긴밀하게 협력해 고해상도 EUV 패턴화를 통해 무어의 법칙을 지속시키겠다"고 말했다.

한편 이날 ASML은 지난 3일 독일 베를린 공장에서 발행한 화재 영향에 대해서는 "올해 제품 생산에 이상이 없도록 하고 있다"고 말했다.

dkim@news1.kr