이석희 SK하이닉스 사장 "中 EUV 장비 도입, 시간 충분히 남았다"

"국내 본사에서 지난 7월 시작"
인텔 낸드 인수 "중국과 적극 협업·협조"

[헤럴드경제=주소현 기자] 미국과 중국 간 반도체 패권 경쟁으로 SK하이닉스 중국 우시성 D램 공장 첨단화를 위한 극자외선(EUV) 노광장비 반입이 어려워졌다는 관측이 나온 가운데 이석희 SK하이닉스 사장이 “아직 충분히 시간이 남았다”며 우려에 선을 그었다.

22일 서울 삼성동 코엑스에서 열린 ‘제 14회 반도체의 날’ 행사에 참석한 이 사장은 기자들과 만나 이 같이 말했다.

이 사장은 “(EUV를 적용한) 1A(4세대) 나노미터 D램 양산을 지난 7월 국내 본사에서 시작했다”며 “그래서 (중국 공장에 EUV 장비를 도입하기까지는) 시간이 충분히 있다”고 밝혔다.

최근에서야 국내 이천 공장에서 EUV를 적용한 D램의 생산을 시작했으니 중국 공장의 EUV 도입은 천천히 추진하겠다는 의도로 보인다.

이 사장은 “아직 시간이 많이 남아있으니까 충분히 협조하면서 (EUV 장비를) 도입하겠다”고도 말했다. EUV 장비 도입에 차질을 빚을 수 있지 않냐는 질문에는 “그렇지 않다”며 “장비는 계속 들어와야 한다”고 답했다.

인텔 낸드 사업부의 인수 진행 상황을 묻는 질문에 대해선 “(중국 정부 등과) 적극적으로 협업, 협조하고 있다”고 말했다. SK하이닉스의 낸드 사업부 인수는 경쟁 당국 기업결합 심사 대상 8개국 중 중국의 승인만 남아있다.

외신과 업계에 따르면 SK하이닉스는 중국 우시 공장에 도입할 예정이던 EUV 장비가 미국 정부의 반대로 무산될 위기에 처했다. 지난 18일 로이터통신은 ““반도체를 효율적으로 생산하기 위해 중국 공정을 첨단화하려던 SK하이닉스의 계획이 (미국 정부의 제재로) 위태롭게 됐다”고 보도한 바 있다.

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