ETRI, 저온서 작업 가능 디스플레이용 포토레지스트 기술 개발

(대전=연합뉴스) 김준호 기자 = 한국전자통신연구원(ETRI)은 높은 온도가 필요하지 않으면서 고해상도를 낼 수 있는 소재 기술을 개발했다고 9일 밝혔다.

ETRI는 100도 이하 온도에서도 픽셀 크기가 3μm(마이크로미터, 100만분의 1ｍ) 이하로 만들 수 있는 포토레지스트(Photoresist) 소재 기술을 개발하고, 이를 국내 최초로 OLED 마이크로디스플레이에 적용하는 데 성공했다.

빛을 받으면 화학적 특성이 달라지는 포토레지스트라는 소재의 얇은 막에 세밀한 픽셀을 형성해 디스플레이를 만드는데, 포토레지스트는 다루는 기술이 어려워 그간 주로 수입 제품에 의존해왔다.

포토레지스트는 높은 온도에서 공정을 진행하는데 기존 LCD 디스플레이는 구조상 유리막이 있어 고온에서 공정을 진행해도 문제가 없었다.

하지만 차세대 디스플레이로 떠 오른 OLED는 높은 온도에서 빛을 내는 발광다이오드에 문제가 생길 수 있어 낮은 온도에서도 공정이 가능한 소재 기술을 개발하는 것이 관건이었다.

ETRI는 포토레지스트의 핵심 원료인 안료를 국산화하고, 이를 적절히 배합하면서 낮은 온도에서도 색이 균일하게 도포될 수 있는 포토레지스트 소재를 만들어 냈다.

이어 웨어러블 기기에 적합한 0.7인치 크기 OLED 마이크로디스플레이에 적용해 시제품도 만들어 냈다.

한 픽셀 당 크기가 3μm 이하로 1인치당 2천300개 픽셀을 밀집해 초고해상도 패널을 제작할 수 있다고 연구진은 설명했다.

조남성 책임연구원은 "원천 소재를 국산화하는 데 성공하면서 소재·부품·장비 산업 자립은 물론 우리나라가 디스플레이 산업 종주국 지위를 유지하는 데 도움이 될 것"이라고 말했다.

kjunho@yna.co.kr

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