아스플로, 공모주 청약 경쟁률 2818대1 기록

기사내용 요약
증거금, 6조3935억원 몰려

[서울=뉴시스]신항섭 기자 = 반도체 공정가스 공급·제어용 부품 전문기업 아스플로는 지난 27일부터 28일까지 양일간 일반 투자자 대상 공모 청약을 진행한 결과 2818대 1의 경쟁률을 기록했다고 이날 밝혔다.

일반 투자자 배정물량 18만1500주에 대해 5억1148만2720주의 청약이 몰렸으며 청약증거금은 6조3935억원으로 집계됐다.

앞서 아스플로는 지난 16일부터 17일 국내외 기관투자자 대상으로 수요예측을 진행한 결과, 최종 공모가를 희망밴드(1만9000~2만2000원) 상단을 초과한 2만5000원에 확정한 바 있다.

반도체 공정가스 부품 개발사업을 영위하고 있는 아스플로는 자체 기술 개발을 통해 고청정 공정가스 부품 소재를 국산화한 기업이다. 극청정 표면처리기술, 고정밀 가공기술, 나노 입자 여과기술 등의 기술을 개발하는 동시에 반도체 공정가스와 관련된 '전 부품 일괄 생산 시스템'을 구축했다.

향후 아스플로는 반도체 시공부품 포트폴리오 확대와 더불어 반도체 장비부품, 바이오 의약품 생산공정 부품, 수소산업 시장 진출 등 사업 다각화를 계획하고 있다. 이번 공모를 통해 확보한 자금은 시설투자와 운용에 사용될 예정이다.

강두홍 아스플로 대표이사는 "기업의 가치와 성장 가능성을 믿어 주신 투자자분들께 감사인사를 드린다"며 "지속적인 기술개발과 혁신으로 기대에 부합하는 회사가 될 것"이라고 말했다.

아스플로는 오는 30일 납입을 거쳐 내달 7일 코스닥 시장에 상장할 예정이다. 주관사는 미래에셋증권이다.

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