[시그널] 반도체 공정가스 부품사 '아스플로'..다음달 코스닥 입성

공모가 최대 2만 2,000원으로 63만 주 공모
주관사 미래에셋증권

[서울경제]

반도체 공정가스 부품사 아스플로가 추석 연휴 이후 기업공개(IPO) 청약에 나선다.

아스플로는 16일 IPO 온라인 간담회를 열고 63만 주를 공모한다고 밝혔다. 주당 공모가는 1만 9,000~2만 2,000원으로 최대 139억 원을 조달한다는 계획이다. 17일까지 수요예측을 통해 공모가를 확정한 뒤 27~28일 일반 투자자 청약에 나선다. 상장 예정일은 다음 달 7일이다.

2001년 설립된 아스플로는 전량 수입에 의존했던 반도체 공정가스 부품소재 시장에서 극청정 표면 처리 기술 개발로 국내 최초로 고청정 배관부품 국산화에 성공한 회사다. 특히 전 부품 일괄생산 시스템을 갖춘 것이 경쟁력으로 꼽힌다. 보통 반도체 공정가스 부품소재를 생산하는 기업은 일부 부품만 생산하지만 아스플로는 반도체 가스공급 관련 모든 시공과 장비용 부품을 생산 공급할 수 있는 ‘전 부품 일괄생산 시스템’을 구축했다.

강두홍 아스플로 대표는 “아스플로는 국내 최초로 반도체 공정가스 부품 국산화에 성공에 성공한 기업”이라며 “지속적인 기술개발과 시장에 필요한 제품으로 글로벌 반도체 공정가스 부품소재 선도기업이 되겠다”고 말했다.

김민석 기자 seok@sedaily.com