세프라텍, 초저농도 용존산소 제거용 탈기막 국산화 국책과제 선정

멤브레인 전문기업 ㈜세프라텍(대표 염충균)은 '초저농도 용존산소(DO) 제거용 탈기막 국산화 기술개발사업(이하 기술개발사업)'에 선정됐다고 밝혔다.

1, 2단계를 포함한 전체 사업비는 약 18억 원으로, 그 중 14억 원은 정부에서 출연한다. 기술개발 사업은 1, 2 단계 모두 합해 총 45개월간 진행되며 1단계 사업 종료 후 평가를 통해 2단계 사업 진행 여부를 결정한다. 1단계(정부지원금 9.5억, 민간부담금 약 3.3억)는 2021년 4월부터 2022년 12월까지, 2단계는 2023년 1월부터 2024년 12월까지다.

일반적으로 물에는 질소, 산소, 이산화탄소 등의 기체가 용존 상태로 존재한다. 반도체 공정, 바이오 등과 같이 고도의 청정함을 요구하는 산업에서는 용존 기체를 제거한 고순도 공업용수가 사용된다. 고순도 공업용수는 순도 확보를 위해 여러 단계의 공정을 거치게 되며, 이 중 탈기막(MDG, Membrane Degassing)은 초순수 처리 공정 내 용존 기체를 제거하는 역할을 한다.

세프라텍은 이번 기술개발 사업을 통해 현재 글로벌 M사가 독점 공급하고 있는 반도체용 고순도 공업용수 생산을 위한 탈기막의 개발 및 운영기술을 확립하여 국산화할 계획이다.

세프라텍 관계자는 "당사는 분리막 전문 기술기업으로 탈탄산법 등의 기존 탈기공정 대비 용존 기체 제거효율이 높은 Membrane Contactor 기술을 보유하고 있다"며 "이번 사업을 통해 반도체, 바이오 등에서 수요가 증가하고 있는 고순도 공업용수 시장에서 소재 국산화의 기반을 다질 것"이라고 말했다.

한편, 코스닥 상장사 엔바이오니아( 대표 한정철)는 지난 1월 세프라텍의 제3자배정 유상증자에 참여하여 지분 54.71%을 보유하고 있다.

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중기&창업팀 허남이 기자 nyheoo@

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