[과기원은 지금] UNIST, 초미세 반도체 소자 제조 공정 개발
전체 맥락을 이해하기 위해서는 본문 보기를 권장합니다.
■ 울산과학기술원(UNIST)은 물리학과 김대식 특훈교수가 이끄는 연구팀이 회로 간격을 0nm(나노미터·1nm는 10억 분의 1m) 수준까지 쉽게 조정할 수 있는 반도체 소자 제조 공정을 개발했다고 15일 밝혔다.
연구진은 틈 구조를 이용해 열고 닫을 수 있는 '제로 갭 구조'를 고안해 틈이 열려있을 때와 닫혀있을 때 단락(on-off)이 생기게 만들어 전기회로로 활용했다.
이 글자크기로 변경됩니다.
(예시) 가장 빠른 뉴스가 있고 다양한 정보, 쌍방향 소통이 숨쉬는 다음뉴스를 만나보세요. 다음뉴스는 국내외 주요이슈와 실시간 속보, 문화생활 및 다양한 분야의 뉴스를 입체적으로 전달하고 있습니다.
■ 울산과학기술원(UNIST)은 물리학과 김대식 특훈교수가 이끄는 연구팀이 회로 간격을 0nm(나노미터·1nm는 10억 분의 1m) 수준까지 쉽게 조정할 수 있는 반도체 소자 제조 공정을 개발했다고 15일 밝혔다. 연구진은 틈 구조를 이용해 열고 닫을 수 있는 ‘제로 갭 구조’를 고안해 틈이 열려있을 때와 닫혀있을 때 단락(on-off)이 생기게 만들어 전기회로로 활용했다. 금속 대신 쉽게 제거 가능한 고분자 물징 등으로 초미세 틈 구조를 만들오 이 틈 사이에 반도체 물질을 증착하면 1nm 미만의 폭을 가진 반도체 소자를 만들 수 있다. 김 교수는 “복잡한 나노 공정이 필요하지 않기 때문에 실제 소자로 즉각 활용하기에도 수월하다”고 말했다. 연구결과는 국제학술지 ‘어드밴스드 옵티컬 머티리얼스’ 지난달 24일자에 실렸다.
[이현경 기자 uneasy75@donga.com]
Copyright © 동아사이언스. 무단전재 및 재배포 금지.