SK하이닉스, 2025년까지 EUV 장비 도입에 4.7조 투자

네덜란드 ASML과 계약..D램 생산에 EUV 활용 예정

(서울=뉴스1) 주성호 기자 = SK하이닉스는 24일 이사회를 열고 EUV(극자외선) 스캐너 기계장치 구입을 위해 2025년 12월까지 4조7549억원을 투자하기로 의결했다고 밝혔다.

거래 상대방은 네덜란드의 ASML이다. ASML은 반도체 장비 제조업체로 세계에서 유일하게 EUV 장비를 생산하는 것으로 잘 알려져 있다.

이번 투자 결정에 대해 SK하이닉스는 "차세대 공정 양산 대응을 위한 EUV 장비 확보 차원"이라며 "총 5년에 걸쳐 EUV 장비를 취득할 예정이며 개별 장비의 취득시마다 분할해 비용을 지불할 것"이라고 설명했다.

극자외선(Extreme Ultra Violet)의 줄임말인 EUV는 반도체 원재료인 실리콘 웨이퍼에 회로를 그려넣는 '노광' 공정에 활용되는 기술이다.

반도체 공정이 갈수록 미세화되는 가운데, EUV는 기존에 노광에 쓰이던 불화아르곤(ArF) 광원에 비해 14분의 1 미만으로 파장의 길이가 짧아서 얇고 세밀한 회로 패턴을 구현할 수 있는 것이 특징이다.

현재까지 반도체 업계에서 EUV 노광 기술은 7나노 이하의 파운드리(위탁생산) 분야에서 TSMC와 삼성전자 등 2개 업체에 의해서만 활용돼왔다.

그러다가 메모리 세계 1위인 삼성전자는 10나노 4세대 D램에 EUV 공정을 적용해 양산하는데 성공했고, SK하이닉스의 경우 올해부터 EUV를 적용한 공정을 막바지 개발하고 있다.

이를 위해서는 EUV 장비를 원활하게 확보하는 것이 무엇보다 중요하다. 특히 네덜란드의 ASML이 독점적으로 생산하다 보니 안정적으로 EUV 장비를 확보하는 것이 관건인데, 대만의 TSMC와 삼성전자 등도 구입 경쟁을 펼치고 있다.

EUV 장비 1대당 가격은 평균 2000억원 수준으로 알려져 있다. 이에 따라 SK하이닉스는 5년 동안 20대 이상의 EUV 장비를 도입하겠다는 계획을 세운 것으로 보인다.

앞서 SK하이닉스는 지난해 하반기에 4세대(1a) 10나노급 D램 생산에 EUV 공정을 적용하기 위한 경력직 채용을 진행하기도 했다. 당시 주요 수행 업무로 제시된 것이 EUV 스캐너 장비와 패터닝(patterning) 공정 개발 등이었다.

sho218@news1.kr

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