D램 핵심기술 中에 유출한 삼성전자·SK하이닉스 협력사 임직원 무더기 기소

검찰이 D램 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술을 중국 업체에 유출한 반도체 장비업체 연구소장 등 17명을 재판에 넘겼다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(부장검사 조상원)는 SK하이닉스의 반도체 제조·세정 관련 국가핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 A회사 연구소장과 영업그룹장 2명을 산업기술보호법 위반죄와 부정경쟁방지법 위반 혐의 등으로 구속기소했다고 26일 밝혔다.

검찰은 아울러 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 B회사의 반도체 세정장비 관련 첨단기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A회사의 공정그룹장, 공장장 및 하청업체 대표 3명을 산업기술보호법위반 혐의 등으로 지난해 구속기소했다. 또 범행에 가담한 A회사 부사장과 품질그룹장 및 B회사의 전직 직원 등 11명과 A회사도 지난해와 올해에 걸쳐 산업기술보호법위반 혐의로 불구속 기소됐다.

검찰에 따르면 A사는 SK하이닉스와 협업을 통해 알게 된 HKMG(하이K메탈게이트)반도체 제조기술과 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년 8월부터 2020년 6월까지 중국 반도체 경쟁업체로 유출했다. 또 삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발했다. 이 기술들은 10나노급 D램 반도체 제조공정의 핵심기술이다.

검찰은 국정원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 수사에 착수했다. 검찰 관계자는 “기술 유출 사건 등 전문 분야 수사 역량을 지속해서 강화해 반도체 제조업 등 대한민국 기간산업의 첨단기술 유출 사범에 엄정 대응하겠다”고 밝혔다.

이창훈 기자 corazon@segye.com