DGIST 반도체 공정라인 확대 구축
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대구경북과학기술원(DGIST)은 중앙기기센터가 상보형 금속산화반도체(CMOS) 제작이 가능한 반도체 공정 소자클린룸을 확대·개방한다고 12일 밝혔다.
반도체 공정 소자클린룸 시설을 갖추지 못한 학교나 연구소 등에 관련 시설을 제공해 CMOS 기반의 차세대 반도체용 연구소자 기술개발 등 다양한 연구개발(R&D)에 활용될 것으로 기대된다.
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대구경북과학기술원(DGIST)은 중앙기기센터가 상보형 금속산화반도체(CMOS) 제작이 가능한 반도체 공정 소자클린룸을 확대·개방한다고 12일 밝혔다. 반도체 공정 소자클린룸 시설을 갖추지 못한 학교나 연구소 등에 관련 시설을 제공해 CMOS 기반의 차세대 반도체용 연구소자 기술개발 등 다양한 연구개발(R&D)에 활용될 것으로 기대된다.
CMOS는 반도체 칩의 일종으로 집적도가 높고 소비전력이 적은 반도체로 손목시계 또는 휴대용 전자계산기 등과 같은 소형제품에서 널리 사용한다.
DGIST 중앙기기센터는 지능형반도체 연구역량을 높이고 반도체 제조 공정 활용 가치창출을 목표로 0.5㎛급 CMOS 표준공정 라인을 추가적으로 구축했다. 이를 통해 단위공정 수준이 아닌 일괄된 소자제작이 가능해져, CMOS 레벨에서 구동해야 하는 연구용 소자 테스트, CMOS 기반 반도체 신소자 및 소재개발 플렛폼 제공, CMOS 단위 웨이퍼 제공, CMOS 기반 교육서비스 지원 등 반도체 관련 연구 및 교육에 널리 활용될 예정이다.
monarch@fnnews.com 김만기 기자
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