[단독] LG화학, 중국 반도체 세정제 시장 '출사표'…장화웨이와 HP-IPA 공동 개발

HBM·AI 칩 수요 폭증 대응…C3-IPA 원료 공급해 현지화 공급망 구축

김상민 LG화학 석유화학사업본부장(전무, 오른쪽)과 상조총 장화웨이 이사장이 

[더구루=김예지 기자] LG화학이 중국 주요 전자재료 기업과 손잡고 반도체용 세정제 시장 공략에 속도를 낸다. 고대역폭메모리(HBM)와 인공지능(AI) 반도체 수요 폭증에 발맞춰 고부가가치 전자급 화학소재 현지 공급망을 선점하겠다는 전략이다.

14일 LG화학에 따르면 최근 중국 강음장화웨이전자재료주식유한회사(이하 장화웨이)와 '반도체용 고순도 이소프로필알코올(HP-IPA) 공동 개발 및 공급망 구축을 위한 업무협약(MOU)'을 체결했다. 체결식에는 김상민 LG화학 석유화학사업본부장(전무)과 상조총 장화웨이 이사장이 참석해 서명식과 프로젝트 착수식을 진행했다.

 

이번 협약에 따라 LG화학은 고품질 프로필렌(C3) 기반 이소프로필알코올(C3-IPA) 원료를 공급하고, 장화웨이는 이를 추가 정제해 HP-IPA 제품을 생산한다는 구상이다. 양사는 LG화학의 대규모 원료 공급 역량과 장화웨이의 초고순도 정제 기술을 결합해 반도체용 화학소재의 현지 상업화를 가속화할 방침이다. 이를 통해 중국 현지 반도체 고객사에 최적화된 맞춤형 HP-IPA 생산체계를 완성할 방침이다.

 

특히 최근 중국 내 반도체 생산능력 확대와 미세공정 고도화로 고순도 전자재료에 대한 현지 조달 수요 및 공급 안정성의 중요성이 크게 늘고 있다. 안정적인 원료 공급과 현지 생산체계 구축이 시장 경쟁력의 핵심으로 꼽히는 이유다.

 

LG화학이 공급하는 C3-IPA는 석유화학 기초유분인 C3와 물을 반응시켜 생산하는 원료다. 기존 아세톤 방식(AT-IPA) 대비 NPA(n-Propyl Alcohol)나 수분 등 불순물 형성 수준이 현저히 낮아 초고순도 반도체용 화학소재 제조에 가장 적합한 원료 물질로 꼽힌다.

 

이를 기반으로 정제된 HP-IPA는 물보다 표면장력이 3분의 1 수준으로 낮고 증발 속도가 빨라, 회로 선폭이 좁아지면서 발생하는 '패턴 붕괴' 현상과 잔류 얼룩(워터마크)을 방지하는 미세 공정의 필수 소재다. 미량의 금속 이온 오염을 ppt(1조분의 1) 단위까지 엄격히 관리해야 하는 만큼 제품 순도가 칩의 수율과 신뢰성을 직접적으로 결정한다.

 

LG화학은 국내 최초로 C3-IPA 독자 공정 개발 및 상업화에 성공하며 저탄소·고품질 생산 기술력을 입증한 바 있다. 현재 여수공장에 연간 16만5000톤 규모의 C3-IPA 생산 능력을 갖추고 있으며, 17종의 정밀 품질 관리 항목을 바탕으로 순도 99.999%급 HP-IPA 기술력을 확보했다. 이미 글로벌 주요 메모리 및 파운드리 고객사 양산 라인에 장기간 공급하며 품질 경쟁력을 입증받아 왔다.

 

이번 협력은 범용 석유화학 비중을 줄이고 고부가가치 반도체 소재 중심 체질 개선에 나선 LG화학의 사업구조 전환 전략과 맞물려 있다. 앞서 LG화학은 지난 7월 2분기 실적발표 컨퍼런스콜을 통해 반도체용 고순도 IPA를 비롯한 고부가 제품 매출 비중을 올해 약 10% 수준에서 오는 2030년 25% 이상으로 대폭 확대하겠다는 목표를 밝힌 바 있다.

 

김상민 LG화학 석유화학사업본부장은 "장화웨이와의 협력을 통해 제품 공동 개발과 시장 협력을 통한 상생을 출발점으로 삼겠다"며 "반도체용 초고순도 원료 분야에서 차별화된 경쟁력을 강화하고 글로벌 시장의 새로운 성장 기회를 지속적으로 발굴해 나가겠다"고 강조했다.