'ASML의 슈퍼을' 자이스 찾은 이재용… 반도체 협력 강화 논의

이재용 삼성전자 회장이 독일 자이스 본사를 방문해 양사 협력 강화를 도모했다. 26일(현지시각) 독일 오버코헨 자이스 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(가운데)과 칼 람프레히트 자이스그룹 CEO(왼쪽), 안드레아스 페허 자이스 SMT(Semiconductor Manufacturing Technology) CEO(오른쪽). /사진=삼성전자

이재용 삼성전자 회장이 반도체 경쟁력 강화를 위해 유럽으로 출장을 떠나 독일 오버코헨에 있는 자이스(ZEISS) 본사를 방문했다.

28일 삼성전자에 따르면 이재용 회장은 지난 26일(현지시각) 자이스 본사를 방문해 칼 람프레히트 CEO(최고경영자) 등 경영진과 양사 협력 강화 방안을 논의했다.

자이스는 첨단 반도체 생산에 필수적인 EUV(extreme ultraviolet) 기술 관련 핵심 특허를 2000개 이상 보유하고 있는 글로벌 광학 기업이다. ASML의 EUV 장비에 탑재되는 광학 시스템을 독점 공급하고 있다. EUV 장비 1대에 들어가는 자이스 부품은 3만개 이상이다.

이 회장은 자이스 경영진과 반도체 핵심 기술 트렌드 및 양사의 중장기 기술 로드맵에 대해 논의했다. 자이스의 공장을 방문해 최신 반도체 부품 및 장비가 생산되는 모습을 직접 살펴봤다.

이재용 삼성전자 회장(왼쪽에서 두번째)이 최신 반도체 장비를 살펴본 뒤 칼 람프레히트 자이스그룹 CEO(왼쪽에서 세번째), 안드레아스 페허 자이스 SMT CEO(왼쪽에서 첫번째)와 함께 기념 사진을 찍고 있다. /사진=삼성전자

자이스 본사 방문에는 송재혁 삼성전자 DS부문 CTO(최고기술경영자), 남석우 삼성전자 DS부문 제조&기술담당 사장 등 반도체 생산기술을 총괄하는 경영진이 동행했다.

삼성전자와 자이스는 파운드리와 메모리 사업 경쟁력을 강화하기 위해 향후 EUV 기술과 첨단 반도체 장비 관련 분야에서의 협력을 더욱 확대하기로 했다.

삼성전자는 EUV 기술력을 바탕으로 파운드리 시장에서 3나노 이하 초미세공정 시장을 주도하고 연내에 EUV 공정을 적용해 6세대 10나노급 D램을 양산할 계획이다.

삼성전자는 자이스와의 기술 협력을 통해 차세대 반도체의 ▲성능 개선 ▲생산 공정 최적화 ▲수율 향상을 달성해 사업 경쟁력을 끌어올릴 수 있을 것으로 보인다.

자이스는 2026년까지 480억원을 투자해 한국에 R&D 센터를 구축할 방침이다. 자이스가 한국 R&D 거점을 마련함에 따라 양사의 전략적 협력은 한층 강화될 전망이다.

연희진 기자 toyo@mt.co.kr