코스맥스비티아이, 자회사 실리콘 레진 관련 특허 취득

김지훈 기자 2020. 1. 28. 14:20
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코스맥스비티아이는 자회사인 코스맥스가 '다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법' 특허권을 취득했다고 28일 공시했다.

코스맥스비티아이는 이번 발명에 대해 "화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성 등이 우수한 특성을 가진다"며 "향후 생산될 제품에 사용될 계획"이라고 설명했다.

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코스맥스비티아이는 자회사인 코스맥스가 '다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법' 특허권을 취득했다고 28일 공시했다. 코스맥스비티아이는 이번 발명에 대해 "화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성 등이 우수한 특성을 가진다"며 "향후 생산될 제품에 사용될 계획"이라고 설명했다.

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