코스맥스, MQ-T 실리콘 레진 합성법 특허권 취득

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코스맥스는 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법 특허권을 취득했다고 28일 공시했다.

회사 측은 "본 발명은 실리콘 MQ 레진과 탄화수소화합물이 결합된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용하여 전신반응을 통해 얻어지는 MQ-T실리콘 레진에 관한 것"이라며 "본 발명에 의한 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 가지며, 화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 특성을 가진다"고 설명했다.

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